二氧化氯消毒劑發(fā)生器
我公司新近研發(fā)——二氧化氯消毒劑發(fā)生器。二氧化氯發(fā)生器可有效殺死水中的各種真菌病原菌等，并可除臭除味除色，。洽談咨詢相關(guān)業(yè)務(wù)！
二氧化氯發(fā)生器特點(diǎn)：
1、占地面積小、安裝方便 2，自動運(yùn)行、操作簡單整個系統(tǒng)無需專人管理 3、系統(tǒng)處理效果穩(wěn)定可靠 4、外表美觀、結(jié)構(gòu)緊湊、
設(shè)備適用范圍
二氧化氯發(fā)生器是佳源環(huán)保水處理設(shè)備有限公司研究生產(chǎn)的高新技產(chǎn)品,該產(chǎn)品采用化學(xué)法工藝,以氯酸鈉和鹽酸為原料制備二氧化氯混合消毒液,可廣泛用于飲用水、游泳池、醫(yī)院污水的消毒；工業(yè)循環(huán)冷卻水殺菌滅藻；工業(yè)廢水脫色、除臭或去除還原性污染成分。
設(shè)備特點(diǎn)
1. 二氧化氯發(fā)生器是自動控制運(yùn)行的真空投加系統(tǒng),操作安全可靠。
2. 發(fā)生系統(tǒng)氯酸鈉轉(zhuǎn)換率在85%以上。
3. 控制系統(tǒng)采用微電腦控制,可實現(xiàn)自動恒溫控制,缺料、欠壓、保護(hù)功能。
4. 設(shè)備布置工藝合理,管路、管件、閥門等配件布置美觀大方,單元為所有部件在本公司裝配固定好,確保在運(yùn)輸過程中不遺失、損壞。
5. 框架內(nèi)所有結(jié)構(gòu)、材質(zhì),都能滿足當(dāng)?shù)丨h(huán)境的防腐要求,并在此基礎(chǔ)上選用優(yōu)質(zhì)產(chǎn)品。
設(shè)備結(jié)構(gòu)及原理
(一) 總體結(jié)構(gòu)及工作原理 總體結(jié)構(gòu)：發(fā)生器由供料系統(tǒng)、反應(yīng)系統(tǒng)、控制系統(tǒng)和安全系統(tǒng)構(gòu)成：發(fā)生器外殼為PVC材料。 工作原理：由計量泵將氯酸鈉水溶液與鹽酸溶液輸入到反應(yīng)器中,在一定溫度和負(fù)壓下進(jìn)行充分反應(yīng),產(chǎn)出以二氧化氯為主,經(jīng)水射器吸收與水充分混合后形成消毒液后,通入被消毒水中。
(二) 主要部件功能及工作原理
(1) 水射器：水射器是根據(jù)射流原理而設(shè)計的一種抽氣元件,當(dāng)動力水經(jīng)過水射器時,其內(nèi)部產(chǎn)生負(fù)壓,外部氣體在壓差作用下被子吸入水射器,從而實現(xiàn)吸氣。被吸入的二氧化體在些與混合,形成消毒液,另外,水射器還用于原料罐吸收。
(2) 計量泵：輸送原料及調(diào)節(jié)流量。
(3) 反映器曝氣口〔進(jìn)氣口〕：設(shè)備運(yùn)行時的空氣通道,安裝時,可連接管道并通到室外,并保持與大氣相通。
(4) 電接點(diǎn)壓力表：電接點(diǎn)壓力表是保護(hù)設(shè)備安全運(yùn)行的裝置之一,其工作原理是：當(dāng)水射器前端水壓低于設(shè)定值時,該表控制計量泵停止進(jìn)料。
(5) 原料液位傳感器：原料液位傳感器也是保護(hù)設(shè)備安全運(yùn)行的裝置之一,它安裝于兩個原料罐底部,當(dāng)任何一種原料用完時,計量泵將停止進(jìn)料。
(6) 溫度控制器：溫度控制器是系統(tǒng)加熱控制機(jī)構(gòu),它保證了氯酸鈉和鹽酸的*化學(xué)反應(yīng)溫度。
(7) 控制器：控制器是二氧化氯發(fā)生器的控制核心,它完成了系統(tǒng)的整個自動控制。
設(shè)備運(yùn)行條件
1. 電源：AC220V 50HZ
2. 加藥方式為連續(xù)或間斷加藥,根據(jù)季節(jié)和水質(zhì)不同,加藥時間、次數(shù)不等。
3. 加藥動力水為工業(yè)水或自來水。
4. 使用的化學(xué)藥品質(zhì)量 鹽酸：應(yīng)符合GB320-93《工業(yè)用合成鹽酸》中一級品標(biāo)準(zhǔn),濃度為30%的液體。 氯酸鈉：工業(yè)氯酸鈉純度99%的固體或濃度為30%的液體。
設(shè)備安裝條件
1. 設(shè)備應(yīng)安裝在室內(nèi),工作環(huán)境溫度要15℃以上。
2. 二氧化氯具有強(qiáng)腐蝕性,因此,在設(shè)備安裝時應(yīng)避免與其它設(shè)備置于同一房間。 3. 設(shè)備間應(yīng)鋪設(shè)水泥地面,并有沖洗水源和排水下水道。
4. 應(yīng)在消毒間內(nèi)安狀換氣扇,保持通風(fēng)良好。
5. 設(shè)備間應(yīng)有壓力水源,壓力為0.2～0.4MPa。
設(shè)備組件說明
