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鋰電池納米氧化鎂研磨分散機(jī)

參考價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱上海思峻機(jī)械設(shè)備有限公司
  • 品       牌
  • 型       號GMD2000
  • 所  在  地上海市
  • 廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
  • 更新時間2018/1/11 11:18:35
  • 訪問次數(shù)378
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食品機(jī)械設(shè)備網(wǎng)采購部電話:13777369734

聯(lián)系我們時請說明是 食品機(jī)械設(shè)備網(wǎng) 上看到的信息,謝謝!

上海思峻機(jī)械設(shè)備有限公司是一家依托德國SGN*工業(yè)設(shè)備生產(chǎn)加工技術(shù)的中德合作創(chuàng)新型企業(yè)。公司通過引進(jìn)德國SGN的*技術(shù)、科學(xué)管理模式以及工業(yè)設(shè)備的銷售模式等,培養(yǎng)了一大批在研發(fā)、制造以及銷售等領(lǐng)域的人才!在德國SGN工業(yè)設(shè)備的基礎(chǔ)上,思峻又自主創(chuàng)新開發(fā)了一批適應(yīng)市場高要求的新型研磨分散設(shè)備。

 

 公司主要研發(fā)、制造、銷售流體領(lǐng)域的高*乳化機(jī)、膠體磨、均質(zhì)機(jī)、分散機(jī)、研磨分散機(jī)、乳化泵、剪切泵、粉液混合機(jī)、成套多功能真空乳化機(jī)等設(shè)備,為混合、分散、均質(zhì)、懸浮、乳化、濕磨、粉液混合等領(lǐng)域提供高品質(zhì)的解決方案,設(shè)備加工材料細(xì)度可達(dá)微納米級別。公司始終擁有一批在食品、化工、醫(yī)藥、新能源等領(lǐng)域有豐富經(jīng)驗的高*人才,能夠?qū)I(yè)為客戶配備例如食品生產(chǎn)線、機(jī)械剝離法石墨烯生產(chǎn)線、氧化還原法石墨烯生產(chǎn)線、高純度碳納米管生產(chǎn)線、復(fù)合漿料生產(chǎn)線等。

 

公司特別注重設(shè)備的售后服務(wù)。依托一支技術(shù)扎實、服務(wù)貼切的售后團(tuán)隊,我們將致力于為客戶提供整套的售后服務(wù),在Z短的時間內(nèi)為客戶解決與合作相關(guān)的一系列問題。

 

“業(yè)精于專”是思峻公司的宗旨,專注人才、專注創(chuàng)新、專注品質(zhì)、專注服務(wù)是公司一貫的追求和對您的承諾,我們堅信專注打造精品,專注將助力思峻在分散、乳化、均質(zhì)的事業(yè)領(lǐng)域中勇攀高峰!

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SGN鋰電池納米氧化鎂研磨分散機(jī)能夠?qū)崿F(xiàn)自動控制,且操作簡單方便,機(jī)器運(yùn)行很穩(wěn)定。機(jī)器的拆洗很方便,不存在任何死角,可以做到*的清洗。
鋰電池納米氧化鎂研磨分散機(jī) 產(chǎn)品信息

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SGN鋰電池納米氧化鎂研磨分散機(jī)能夠?qū)崿F(xiàn)自動控制,且操作簡單方便,機(jī)器運(yùn)行很穩(wěn)定。機(jī)器的拆洗很方便,不存在任何死角,可以做到*的清洗。

納米氧化鎂是一種新型納米微粒材料,外觀白色粉末,純度高、比表面積大,由極細(xì)的晶粒組成,無毒、無味、分散性好,相對密度約3.58(25℃)。熔點(diǎn)2852℃,沸點(diǎn)3600℃.難溶于水,不溶于醇,溶于酸或銨鹽溶液中。納米級氧化鎂具有明顯的小尺寸效應(yīng)、表面效應(yīng)、量子尺寸效應(yīng)和宏觀隧道效應(yīng),經(jīng)改性處理,無團(tuán)聚現(xiàn)象,在光學(xué)、催化、磁性、力學(xué)、化工等方面具有許多特異功能及重要應(yīng)用價值,前景非常廣闊,是21世紀(jì)重要新材料。  

(價格電議:葛    公司有樣機(jī)可供客戶實驗?。?/td>

 

技術(shù)指標(biāo):

項目

指標(biāo)

型號

DC-MgO-002

氧化鎂%

99.9

粒徑

30nm

鈣 ppm <

3

氯化物 ppm <

3

鐵ppm <

3

灼燒失量%,<

0.3

比表面m2/g

60-100

 

在鋰電池中的應(yīng)用特性

1. 在鋰電池中的應(yīng)用

在鋰離子蓄電池正極材料中添加適量的納米氧化鎂,所得正極材料擁有大于140mAh/g的可逆放電容量,且循環(huán)性能良好。在正極材料中使用可以提高導(dǎo)電性,建議添加量 0.3-0.5%

2. 鋅鎳蓄電池中的應(yīng)用

通過物理混合的方法在鋅負(fù)極活性物質(zhì)中摻入氧化鎂,可減少充放電極化、減少循環(huán)后期的內(nèi)阻、提高負(fù)板活性物質(zhì)利用率、延長電池循環(huán)壽命,適宜添加量為1.0%wt的氧化鎂,且添加量不宜超過2.0%。

3. 高氯化鋅電池中的應(yīng)用

在正極活性物質(zhì)中添加少量的氧化鎂可以調(diào)節(jié)電液酸度,減緩自放電,抑制電池氣脹,提高貯存性能,且對提高放電容量及促進(jìn)漿層糊化有*的效果。建議添加量 0.5-1%,并調(diào)節(jié)合適的PH值。

4. 鎘鎳蓄電池中的應(yīng)用

在鎘電極中添加適量的氧化鎂、氧化鋅和氧化鐵可提高活性物質(zhì)利用率;添加氧化鎂,三氧化二銦和氧化鋅,可提高密封鎘鎳蓄電池的荷電保持能力

 

是由錐體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。

*級由具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗工作頭來滿 足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

GMD2000研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu),有一定輸送能力,可以處理高固含量有一定粘稠度物料,GM2000設(shè)計了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子,進(jìn)行物料的推動輸送;所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼,機(jī)座采用304不銹鋼;特殊要求如:硬度較大物料,對鐵雜質(zhì)要求嚴(yán)苛的物料,管道有一定壓力并且需不間斷運(yùn)轉(zhuǎn)的工況,可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷;GMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設(shè)計,可通冷卻或者升溫介質(zhì)。

 

的特點(diǎn):

1、 線速度很高,剪切間隙非常小,當(dāng)物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨

2 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

3、 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

4、 在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

5、 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

 

設(shè)備其它參數(shù):

設(shè)備等級:化工級、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級、無菌級
電機(jī)形式:普通馬達(dá)、變頻調(diào)速馬達(dá)、防爆馬達(dá)、變頻防爆馬達(dá)、
電源選擇 380V/50HZ、220V/60HZ440V/50HZ
電機(jī)選配件 PTC 熱保護(hù)、降噪型
研磨分散機(jī)材質(zhì)SUS304 、SUS316L SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機(jī)選配:儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車
研磨分散機(jī)表面處理:拋光、耐磨處理
進(jìn)出口聯(lián)結(jié)形式:法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機(jī)選配容器:本設(shè)備適合于各種不同大小的容器

 

從設(shè)備角度來分析,影響研磨分散機(jī)效果因素有以下幾點(diǎn):

1.研磨頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次式要好)

2.研磨頭的剪切速率,(越大效果越好)

3.研磨的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒、中齒、細(xì)齒、超細(xì)齒、越細(xì)齒效果越好)

4.物料在分散墻體的停留時間、研磨分散時間(可以看作同等電機(jī),流量越小效果越好)

5.循環(huán)次數(shù)(越多效果越好,到設(shè)備的期限就不能再好了。)

 

線速度的計算:

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
               g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

由上可知,剪切速率取決于以下因素:

轉(zhuǎn)子的線速率

在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。 
SGN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速 RPM  /   60

 所以轉(zhuǎn)速和分散頭結(jié)構(gòu)是影響分散的一個zui重要因素,超高速分散均質(zhì)分散機(jī)的高轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細(xì)微懸浮液是zui重要的

 

GMD2000系列研磨分散機(jī)設(shè)備選型表
 

型號

流量

L/H

轉(zhuǎn)速

rpm

線速度

m/s

功率

kw

入/出口連接

DN

GMD2000/4

300

9000

23

2.2

DN25/DN15

GMD2000/5

1000

6000

23

7.5

DN40/DN32

GMD2000/10

2000

4200

23

22

DN80/DN65

GMD2000/20

5000

2850

23

37

DN80/DN65

GMD2000/30

8000

1420

23

55

DN150/DN125

GMD2000/50

15000

1100

23

110

DN200/DN150

 

流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%

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