UV解膠機(jī)
| 詳細(xì)介紹 | ||||||||||||||||||||||||||||||
基本參數(shù) · 送料形式：抽屜式 · 電源電壓：220V · 別名：UV膜黏性去除機(jī) · 規(guī)格：550*550*260mm · 用途：適用于光學(xué)鏡頭、LED、IC、半導(dǎo)體、集成電路板、移動(dòng)硬盤等半導(dǎo)體材料UV膜脫膠使用 · 品牌：藍(lán)星宇科技 · 型號(hào)：LXY-UV150 · 加工定制 詳細(xì)描述: 特性：粘著劑的硬化處理速度一般要30-40秒，但根據(jù)膠膜的粘著劑特性及適合性和燈管的波長(zhǎng)，硬化的處理時(shí)間將增長(zhǎng)或減少，不過此系統(tǒng)是適用性很高的，例如它可以使用于研發(fā)及大量生產(chǎn)； 用途：適用于光學(xué)鏡頭、LED、IC、半導(dǎo)體、集成電路板、移動(dòng)硬盤等半導(dǎo)體材料UV膜脫膠使用 種類：化合物半導(dǎo)體 UV解膠機(jī)型號(hào)參數(shù)：
優(yōu)點(diǎn)： 1.晶圓尺寸：可到6寸、8寸、12寸 2.操作者只要簡(jiǎn)單放置/拿開工作物，其它工作都是全自動(dòng) 3. 外形小巧，桌上型的機(jī)型含有進(jìn)口冷光源能均勻產(chǎn)生波長(zhǎng)350-400nm的燈光照射，消除膠膜的粘膠 4、具有溫度低、曝光均勻、結(jié)構(gòu)緊湊、能耗小、是半導(dǎo)體行業(yè)的理想機(jī)型 | ||||||||||||||||||||||||||||||
UV解機(jī)
藍(lán)星宇科技專業(yè)研發(fā)設(shè)計(jì)組裝：紫外臭氧清洗機(jī)（UV清洗機(jī)），準(zhǔn)分子清洗機(jī)，等離子清洗機(jī)等儀器設(shè)備。引進(jìn)日本，德國(guó)，韓國(guó)*技術(shù)，設(shè)備已獲得眾多院校，研究所，高科技企業(yè)等客戶*認(rèn)可。
同時(shí)我們專注進(jìn)口科學(xué)儀器設(shè)備及材料，主要代理有：德國(guó)Nanoscribe 雙光子微納 3D 打印機(jī)（雙光子飛秒激光直寫儀），德國(guó) SUSS 蘇斯光刻機(jī)，德國(guó) Heidelberg 海德堡光刻機(jī)，美國(guó) OAI 光刻機(jī)，德國(guó) Raith 電子束光刻機(jī)，英國(guó) Durtham 無掩膜光刻機(jī)，美國(guó) Trion 刻蝕機(jī).沉積機(jī)，德國(guó) Sentech 刻蝕機(jī).沉積機(jī)，德國(guó) Optosol 吸收率發(fā)射率檢測(cè)儀，日本 SEN UV清洗機(jī).UV清洗燈，美國(guó)Jelight UV清洗機(jī)，美國(guó) Nano-master 晶圓清洗機(jī)，美國(guó) Arradiance 原子層沉積機(jī)，德國(guó) WL 微波離子沉積機(jī)，德國(guó) Iplas 微波離子沉積機(jī)，美國(guó)量子科學(xué) Quantum 綜合物性測(cè)量系統(tǒng)，德國(guó) Diener 等離子清洗機(jī)等*技術(shù)產(chǎn)品；并可依據(jù)客戶需求，研發(fā)定制相關(guān)儀器及材料。我們以具競(jìng)爭(zhēng)力的價(jià)格為客戶提供優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品與服務(wù)，為中國(guó)半導(dǎo)體/電子/光電/生物//高科技企業(yè)/高校學(xué)院/研究所/檢測(cè)分析等客戶提供設(shè)備儀器及材料。
