食品機(jī)械設(shè)備網(wǎng)>產(chǎn)品庫(kù)>食品通用設(shè)備>清洗設(shè)備>清洗機(jī)>>美國(guó)UVOCS UVO?清洗機(jī)

美國(guó)UVOCS UVO?清洗機(jī)

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公司名稱深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
品牌
型號(hào)
所在地深圳市
廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
更新時(shí)間2019/8/13 8:56:31
訪問(wèn)次數(shù)242

產(chǎn)品標(biāo)簽:

青辣椒烘干機(jī)漏糞板生產(chǎn)線烘干機(jī)

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公司介紹主營(yíng)產(chǎn)品

藍(lán)星宇科技專業(yè)研發(fā)設(shè)計(jì)組裝：紫外臭氧清洗機(jī)（UV清洗機(jī)），準(zhǔn)分子清洗機(jī)，等離子清洗機(jī)等儀器設(shè)備。引進(jìn)日本，德國(guó)，韓國(guó)*技術(shù)，設(shè)備已獲得眾多院校，研究所，高科技企業(yè)等客戶*認(rèn)可。

同時(shí)我們專注進(jìn)口科學(xué)儀器設(shè)備及材料，主要代理有：德國(guó)Nanoscribe 雙光子微納 3D 打印機(jī)（雙光子飛秒激光直寫儀），德國(guó) SUSS 蘇斯光刻機(jī)，德國(guó) Heidelberg 海德堡光刻機(jī)，美國(guó) OAI 光刻機(jī)，德國(guó) Raith 電子束光刻機(jī)，英國(guó) Durtham 無(wú)掩膜光刻機(jī)，美國(guó) Trion 刻蝕機(jī).沉積機(jī)，德國(guó) Sentech 刻蝕機(jī).沉積機(jī)，德國(guó) Optosol 吸收率發(fā)射率檢測(cè)儀，日本 SEN UV清洗機(jī).UV清洗燈，美國(guó)Jelight UV清洗機(jī)，美國(guó) Nano-master 晶圓清洗機(jī)，美國(guó) Arradiance 原子層沉積機(jī)，德國(guó) WL 微波離子沉積機(jī)，德國(guó) Iplas 微波離子沉積機(jī)，美國(guó)量子科學(xué) Quantum 綜合物性測(cè)量系統(tǒng)，德國(guó) Diener 等離子清洗機(jī)等*技術(shù)產(chǎn)品；并可依據(jù)客戶需求，研發(fā)定制相關(guān)儀器及材料。我們以具競(jìng)爭(zhēng)力的價(jià)格為客戶提供優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品與服務(wù)，為中國(guó)半導(dǎo)體/電子/光電/生物//高科技企業(yè)/高校學(xué)院/研究所/檢測(cè)分析等客戶提供設(shè)備儀器及材料。

展開顯示更多內(nèi)容

產(chǎn)品分類半導(dǎo)體微納工藝設(shè)備光刻機(jī)系統(tǒng)（歐美日進(jìn)口）真空鍍膜/薄膜沉積離子刻蝕與沉積勻膠涂覆機(jī) 輔助工藝 UV清洗-等離子清洗設(shè)備紫外線UV清洗機(jī) 準(zhǔn)分子清洗機(jī) 等離子清洗機(jī) UV清洗燈UV固化燈曝光燈 UV固化機(jī)UV解膠機(jī) 電源.安定器 UV殺菌機(jī) UV能量計(jì) 半導(dǎo)體微納檢測(cè)儀器 JEOL 日本電子儀器設(shè)備德Bruker原子力顯微鏡/光學(xué)輪廓儀/臺(tái)階儀/紅外光譜儀 ALPHA II FTIR光譜儀 YXLON 高分辨率X射線檢測(cè)設(shè)備 TEK半導(dǎo)體參數(shù)分析儀美國(guó) Denton Vacuum金/碳鍍膜機(jī) 半導(dǎo)體測(cè)試探針臺(tái)-智果EMP50S 德Klock Nanotech 納米級(jí)3D測(cè)量?jī)x Nisene 等離子開封及化學(xué)開封設(shè)備德Mecwins 掃描式激光分析儀 RTI 自動(dòng)特性圖示儀美Filmetrics 薄膜厚度測(cè)量?jī)x 美Nanovea三維表面形貌儀

產(chǎn)品簡(jiǎn)介在線詢價(jià)

類型	通道式

美國(guó)UVOCS UVO?清洗機(jī)接觸角測(cè)量方法4-5度。適用AES和ESCA測(cè)量細(xì)微的峰值。使用蒸汽測(cè)試，在冷凝和蒸發(fā)時(shí)形成*的彩虹裝的條紋。

美國(guó)UVOCS UVO?清洗機(jī) 產(chǎn)品信息

美國(guó)UVOCS UVO?清洗機(jī)、

紫外臭氧清洗，去除無(wú)機(jī)基材料（如：石英、硅片、金、鎳、鋁、砷化鎵，氧化鋁等）上的有機(jī)污染物；特別是當(dāng)基材和薄膜蒸鍍需要很好的粘接時(shí)，紫外清洗非常理想。要獲得超潔凈的表面，只需在傳統(tǒng)清洗之后，再用紫外臭氧清洗幾分鐘就可以。

應(yīng)用說(shuō)明
• 表面的原子級(jí)清洗
•去除有機(jī)分子
•紫外光固化、表面化學(xué)改性
•聚合物粘接、金屬粘結(jié)準(zhǔn)備
•微流控制作、微米/納米構(gòu)型
•表面殺菌、表面氧化
•釋放捕獲的無(wú)機(jī)分子
•快速－大多數(shù)應(yīng)用10分鐘內(nèi)可完成

紫外臭氧清洗工作原理

UVO清洗設(shè)備的核心是低壓石英汞燈，產(chǎn)生254和185nm范圍的紫外線。臭氧和等離子氧氣產(chǎn)生，有機(jī)污染物分子在吸收254nm波長(zhǎng)紫外線后被激發(fā)或分解；激發(fā)的有機(jī)污染物可以和等離子氧原子反應(yīng)形成氣體，比如CO?,等。整個(gè)過(guò)程在室溫發(fā) 生，并且只需要1到幾分鐘完成。

紫外臭氧清洗可以去除？
皮膚油脂，有機(jī)硅油和油脂，助焊劑，殘留的光刻膠，膠水溶劑，碳等。