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藍(lán)星宇UV清洗機(jī) LXY-PL17-110

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公司名稱深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
品牌
型號(hào)
所在地深圳市
廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
更新時(shí)間2019/8/13 8:58:06
訪問次數(shù)251

產(chǎn)品標(biāo)簽:

磁性材料清洗線黃花菜烘干機(jī)臭氧發(fā)生器

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公司介紹主營(yíng)產(chǎn)品

藍(lán)星宇科技專業(yè)研發(fā)設(shè)計(jì)組裝：紫外臭氧清洗機(jī)（UV清洗機(jī)），準(zhǔn)分子清洗機(jī)，等離子清洗機(jī)等儀器設(shè)備。引進(jìn)日本，德國(guó)，韓國(guó)*技術(shù)，設(shè)備已獲得眾多院校，研究所，高科技企業(yè)等客戶*認(rèn)可。

同時(shí)我們專注進(jìn)口科學(xué)儀器設(shè)備及材料，主要代理有：德國(guó)Nanoscribe 雙光子微納 3D 打印機(jī)（雙光子飛秒激光直寫儀），德國(guó) SUSS 蘇斯光刻機(jī)，德國(guó) Heidelberg 海德堡光刻機(jī)，美國(guó) OAI 光刻機(jī)，德國(guó) Raith 電子束光刻機(jī)，英國(guó) Durtham 無(wú)掩膜光刻機(jī)，美國(guó) Trion 刻蝕機(jī).沉積機(jī)，德國(guó) Sentech 刻蝕機(jī).沉積機(jī)，德國(guó) Optosol 吸收率發(fā)射率檢測(cè)儀，日本 SEN UV清洗機(jī).UV清洗燈，美國(guó)Jelight UV清洗機(jī)，美國(guó) Nano-master 晶圓清洗機(jī)，美國(guó) Arradiance 原子層沉積機(jī)，德國(guó) WL 微波離子沉積機(jī)，德國(guó) Iplas 微波離子沉積機(jī)，美國(guó)量子科學(xué) Quantum 綜合物性測(cè)量系統(tǒng)，德國(guó) Diener 等離子清洗機(jī)等*技術(shù)產(chǎn)品；并可依據(jù)客戶需求，研發(fā)定制相關(guān)儀器及材料。我們以具競(jìng)爭(zhēng)力的價(jià)格為客戶提供優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品與服務(wù)，為中國(guó)半導(dǎo)體/電子/光電/生物//高科技企業(yè)/高校學(xué)院/研究所/檢測(cè)分析等客戶提供設(shè)備儀器及材料。

展開顯示更多內(nèi)容

產(chǎn)品分類半導(dǎo)體微納工藝設(shè)備光刻機(jī)系統(tǒng)（歐美日進(jìn)口）真空鍍膜/薄膜沉積離子刻蝕與沉積勻膠涂覆機(jī) 輔助工藝 UV清洗-等離子清洗設(shè)備紫外線UV清洗機(jī) 準(zhǔn)分子清洗機(jī) 等離子清洗機(jī) UV清洗燈UV固化燈曝光燈 UV固化機(jī)UV解膠機(jī) 電源.安定器 UV殺菌機(jī) UV能量計(jì) 半導(dǎo)體微納檢測(cè)儀器 JEOL 日本電子儀器設(shè)備德Bruker原子力顯微鏡/光學(xué)輪廓儀/臺(tái)階儀/紅外光譜儀 ALPHA II FTIR光譜儀 YXLON 高分辨率X射線檢測(cè)設(shè)備 TEK半導(dǎo)體參數(shù)分析儀美國(guó) Denton Vacuum金/碳鍍膜機(jī) 半導(dǎo)體測(cè)試探針臺(tái)-智果EMP50S 德Klock Nanotech 納米級(jí)3D測(cè)量?jī)x Nisene 等離子開封及化學(xué)開封設(shè)備德Mecwins 掃描式激光分析儀 RTI 自動(dòng)特性圖示儀美Filmetrics 薄膜厚度測(cè)量?jī)x 美Nanovea三維表面形貌儀

產(chǎn)品簡(jiǎn)介在線詢價(jià)

類型	通道式

藍(lán)星宇UV清洗機(jī) LXY-PL17-110光源到試驗(yàn)臺(tái)之間大有80mm 距離，因此無(wú)論是玻璃/膠片型還是立體物品都可以處理。

藍(lán)星宇UV清洗機(jī) LXY-PL17-110 產(chǎn)品信息

藍(lán)星宇UV清洗機(jī) LXY-PL17-110紫外臭氧清洗機(jī)
型號(hào)Model： LXY-PL17-110

應(yīng)用Objects
光清洗改質(zhì)實(shí)驗(yàn)裝置UV/O3 cleaning and modifying experiments
尺寸Dimensions：約350W*350D*380H(mm)
電源Power supply： 220V 50/60Hz
功率Power consumption ：140W
照射面積Irradiation area： 170*170MM
UV 能量Uv intensity： 25-35mW/cm2
燈總功率Total lamp wat.： 110W
燈型號(hào)Lamp model 日本SEN *：SUV110GS-36
燈數(shù)量Number of lamps ：1PCS

特點(diǎn): 本裝置是為了運(yùn)用短波長(zhǎng)紫外線254NM 和185NM 雙波段進(jìn)行表面處理、干式清洗的效果而設(shè)計(jì)制作的試驗(yàn)機(jī)。所使用的光源為日本*SEN 特殊光源, 110W 合成石英玻璃的面光源。

本機(jī)的正面為單開門，試驗(yàn)品可以很容易的放取。試驗(yàn)臺(tái)到光源使用特定的升降機(jī)可以任意改變高度，照度可以使用照度計(jì)測(cè)定。機(jī)器內(nèi)部產(chǎn)生的臭氧經(jīng)過特別設(shè)置的排出口排出。
同時(shí)我們還有例如200mm 角300mm 角面光源，兩面照射，抽出式試驗(yàn)臺(tái)，旋轉(zhuǎn)式照射臺(tái)等多種姊妹產(chǎn)品供您選擇。

構(gòu)成和構(gòu)造:
光源到試驗(yàn)臺(tái)之間大有80mm 距離，因此無(wú)論是玻璃/膠片型還是立體物品都可以處理。
照射距離可使用手動(dòng)升降機(jī)調(diào)節(jié)高度。
在門上設(shè)有觀察窗，可以通過觀察窗隨時(shí)確認(rèn)被照射物體的狀態(tài)。
紫外光UV清洗原理

紫外線清洗是是利用有機(jī)化合物的光敏氧化作用達(dá)到去除附著在材料表面的有機(jī)物質(zhì)。經(jīng)過光清洗后的材料表面可以達(dá)到原子級(jí)清潔度。

其主要原理為紫外線燈發(fā)出的185nm波長(zhǎng)和254nm波長(zhǎng)具有很高的能量，高于大多數(shù)有機(jī)物的結(jié)合能量。由于大多數(shù)碳?xì)浠衔飳?duì)185nm波長(zhǎng)的紫外線具有較強(qiáng)的吸收能力，并且可以在吸收185nm波長(zhǎng)后分解成離子，流離態(tài)原子，受激分子和中子等，這就是光敏作用。空氣中的氧分子在吸收了185nm波長(zhǎng)的紫外光后，會(huì)產(chǎn)生臭氧和氧氣，臭氧對(duì)254nm波長(zhǎng)具有很強(qiáng)的吸收性，臭氧有可以分解為氧原子和氧氣。氧原子具有*的氧化性，可以將碳?xì)浠湘I切斷，生成水和二氧化碳等易揮發(fā)氣體，從被照射物表面飄逸出，*清除物體表面的污染物。