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美Jelight 紫外臭氧清洗機144AX-220

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具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱深圳市藍星宇電子科技有限公司
  • 品       牌
  • 型       號
  • 所  在  地深圳市
  • 廠商性質生產廠家
  • 更新時間2019/8/13 9:01:05
  • 訪問次數(shù)333
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藍星宇科技專業(yè)研發(fā)設計組裝:紫外臭氧清洗機(UV清洗機),準分子清洗機,等離子清洗機等儀器設備。引進日本,德國,韓國*技術,設備已獲得眾多院校,研究所,高科技企業(yè)等客戶*認可。 

  同時我們專注進口科學儀器設備及材料,主要代理有:德Nanoscribe 雙光子微納 3D 打印機(雙光子飛秒激光直寫儀)德國 SUSS 蘇斯光刻機,德國 Heidelberg 海德堡光刻機,美國 OAI 光刻機,德國 Raith 電子束光刻機,英國 Durtham 無掩膜光刻機,美國 Trion 刻蝕機.沉積機,德國 Sentech 刻蝕機.沉積機,德國 Optosol 吸收率發(fā)射率檢測儀,日本 SEN  UV清洗機.UV清洗燈,美國Jelight UV清洗機,美國 Nano-master 晶圓清洗機,美國 Arradiance 原子層沉積機,德國 WL 微波離子沉積機,德國 Iplas 微波離子沉積機,美國量子科學 Quantum 綜合物性測量系統(tǒng),德國 Diener 等離子清洗機等*技術產品;并可依據(jù)客戶需求,研發(fā)定制相關儀器及材料。我們以具競爭力的價格為客戶提供優(yōu)質的產品與服務,為中國半導體/電子/光電/生物//高科技企業(yè)/高校學院/研究所/檢測分析等客戶提供設備儀器及材料。

 

產品分類 半導體微納工藝設備 光刻機系統(tǒng)(歐美日進口) 真空鍍膜/薄膜沉積 離子刻蝕與沉積 勻膠涂覆機 輔助工藝 UV清洗-等離子清洗設備 紫外線UV清洗機 準分子清洗機 等離子清洗機 UV清洗燈UV固化燈曝光燈 UV固化機UV解膠機 電源.安定器 UV殺菌機 UV能量計 半導體微納檢測儀器 JEOL 日本電子儀器設備 德Bruker原子力顯微鏡/光學輪廓儀/臺階儀/紅外光譜儀 ALPHA II FTIR光譜儀 YXLON 高分辨率X射線檢測設備 TEK半導體參數(shù)分析儀 美國 Denton Vacuum金/碳鍍膜機 半導體測試探針臺-智果EMP50S 德Klock Nanotech 納米級3D測量儀 Nisene 等離子開封及化學開封設備 德Mecwins 掃描式激光分析儀 RTI 自動特性圖示儀 美Filmetrics 薄膜厚度測量儀 美Nanovea三維表面形貌儀
類型 通道式
美Jelight 紫外臭氧清洗機144AX-220至工業(yè)生產的規(guī)模,由于新的技術,使生產臭氧不再成為經濟負擔。本公司的產品專門使用低壓汞氣燈所放射出的短波紫外線,來產生純凈的臭氧。訂購時,請指明120VAC/60Hz或220VAC/50Hz的電源供應器。 ?
美Jelight 紫外臭氧清洗機144AX-220 產品信息

美Jelight 紫外臭氧清洗機144AX-220美國JELIGHT公司成立于一九七八年,一直致力于為科研,工業(yè)生產領域設計和制造紫外相關產品。主要產品包括:Double Bore Lamps雙筒燈 (低壓汞蒸氣),Capillary Lamps毛細管水銀燈(低壓汞蒸氣),Grid Lamps隔柵燈(低壓汞蒸氣),Aperture Phosphor Coated Lamps(低壓汞蒸氣),中壓燈Medium Pressure Lamps (UV Curing and Additive Lamps),紫外臭氧清洗機UVO Cleaner,晶圓記憶消除器Wafer and EPROM Erasers (CHIPnERASER),臭氧發(fā)生器Ozone Generator。 

美國JELIGHT紫外臭氧清洗機 

JELIGHT 紫外清洗機是一種快速干法表面清洗工具。其原理是利用紫外光子對有機物質所起的光敏氧化作用以達到清洗粘附在物體表面上的有機化合物(碳氫化合物)的目的。是清除硅、砷化鎵、石英、藍寶石、玻璃、云母、陶瓷、金屬等表面有機污染物的安全、有效的方法。 除清洗外,JELIGHT紫外清洗機還可用于表面改質,如通過紫外處理后,涂層與表面的粘附力可大大增加,并可用于生物芯片制作過程中PDMS鍵合等。 
  


  
紫外清洗優(yōu)點 
• 被清洗的表面除了光子,不與任何物體發(fā)生接觸,有機物經過紫外光照射發(fā)生光敏氧化反應后,生成可揮發(fā)性氣體(CO2、CO、H2O等)從表面消散,隨著排風系統(tǒng)抽走。 
• 表面潔凈度高,且不會像溶液清洗時發(fā)生二次污染。 
• 光清洗的表面不會受到損傷,由于光子的能量相對比氬等離子體濺射或惰性氣體離子轟擊的能量小,光清洗后的表面不會受到損傷或發(fā)生晶體缺陷的現(xiàn)象。 
• 光清洗對物體表面微細部位(如孔穴、微細溝槽等)具有有效而*的清洗效果。由于紫外光是納米短波紫外線,能夠射入材料表面的極為 細微的部位,發(fā)生光敏氧化反應,充分表現(xiàn)出光清洗的*性。 

相關應用 
• 在進行薄膜沉積之前*行基片清洗。清除浮渣和穩(wěn)定化處理光刻膠。超高真空度密封。 
• 清洗硅芯片,透鏡,反光鏡,太陽能面板,冷軋鋼,慣性引導零件和 GaAs芯片 
• 清潔焊劑,混合電路以及平板LCD顯示器 
• 蝕刻特氟隆,氟橡膠以及其它有機材料 
• 增強GaAs 和Si氧化物鈍化表面 
• 增強玻璃的除氣作用 
• 基片藍膜去除 
• 增強塑料表面的鍍膜的粘附性 
• 基片終測后墨跡清楚 
• 去除光刻膠 
• 平板顯示器/液晶顯示器 
• 去除光刻機臺上的光刻膠殘留物 
• 在電路板封裝和打片之前清洗 
• 光纖 
• 增強表面親水特性 
• 為生物科學應用做清洗和消毒 
• 光學透鏡 
• 其它應用 
  
臭氧發(fā)生器 
Ozone Generator 
  
臭氧(氧化電位2.7eV)的反應活性相當強,是一種強氧化劑。在許多新領域的研發(fā)過程中,它逐漸成為*的元素之一。其中包含化學實驗室,大學以及電子,醫(yī)藥,化學,生物和醫(yī)學研究機構。在工業(yè)應用的范圍也增加許多。例如半導體產業(yè),環(huán)境研究。飲用水及污水處理,塑料和包裝產業(yè)以及食品加工技術。臭氧也被常用為殺菌與消毒液體,氣體和固體有機物質。無論是單一的實驗室或實驗工廠,甚至工業(yè)生產的規(guī)模,由于新的技術,使生產臭氧不再成為經濟負擔。本公司的產品專門使用低壓汞氣燈所放射出的短波紫外線,來產生純凈的臭氧。訂購時,請指明120VAC/60Hz或220VAC/50Hz的電源供應器。 

美Jelight 紫外臭氧清洗機144AX-220

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