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Jelight 342 UVO3清洗機(jī)

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公司名稱深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
品牌
型號(hào)
所在地深圳市
廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
更新時(shí)間2019/8/13 9:07:47
訪問次數(shù)187

產(chǎn)品標(biāo)簽:

青辣椒烘干機(jī)凈化機(jī)清洗機(jī)

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藍(lán)星宇科技專業(yè)研發(fā)設(shè)計(jì)組裝：紫外臭氧清洗機(jī)（UV清洗機(jī)），準(zhǔn)分子清洗機(jī)，等離子清洗機(jī)等儀器設(shè)備。引進(jìn)日本，德國，韓國*技術(shù)，設(shè)備已獲得眾多院校，研究所，高科技企業(yè)等客戶*認(rèn)可。

同時(shí)我們專注進(jìn)口科學(xué)儀器設(shè)備及材料，主要代理有：德國Nanoscribe 雙光子微納 3D 打印機(jī)（雙光子飛秒激光直寫儀），德國 SUSS 蘇斯光刻機(jī)，德國 Heidelberg 海德堡光刻機(jī)，美國 OAI 光刻機(jī)，德國 Raith 電子束光刻機(jī)，英國 Durtham 無掩膜光刻機(jī)，美國 Trion 刻蝕機(jī).沉積機(jī)，德國 Sentech 刻蝕機(jī).沉積機(jī)，德國 Optosol 吸收率發(fā)射率檢測儀，日本 SEN UV清洗機(jī).UV清洗燈，美國Jelight UV清洗機(jī)，美國 Nano-master 晶圓清洗機(jī)，美國 Arradiance 原子層沉積機(jī)，德國 WL 微波離子沉積機(jī)，德國 Iplas 微波離子沉積機(jī)，美國量子科學(xué) Quantum 綜合物性測量系統(tǒng)，德國 Diener 等離子清洗機(jī)等*技術(shù)產(chǎn)品；并可依據(jù)客戶需求，研發(fā)定制相關(guān)儀器及材料。我們以具競爭力的價(jià)格為客戶提供優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品與服務(wù)，為中國半導(dǎo)體/電子/光電/生物//高科技企業(yè)/高校學(xué)院/研究所/檢測分析等客戶提供設(shè)備儀器及材料。

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產(chǎn)品分類半導(dǎo)體微納工藝設(shè)備光刻機(jī)系統(tǒng)（歐美日進(jìn)口）真空鍍膜/薄膜沉積離子刻蝕與沉積勻膠涂覆機(jī) 輔助工藝 UV清洗-等離子清洗設(shè)備紫外線UV清洗機(jī) 準(zhǔn)分子清洗機(jī) 等離子清洗機(jī) UV清洗燈UV固化燈曝光燈 UV固化機(jī)UV解膠機(jī) 電源.安定器 UV殺菌機(jī) UV能量計(jì) 半導(dǎo)體微納檢測儀器 JEOL 日本電子儀器設(shè)備德Bruker原子力顯微鏡/光學(xué)輪廓儀/臺(tái)階儀/紅外光譜儀 ALPHA II FTIR光譜儀 YXLON 高分辨率X射線檢測設(shè)備 TEK半導(dǎo)體參數(shù)分析儀美國 Denton Vacuum金/碳鍍膜機(jī) 半導(dǎo)體測試探針臺(tái)-智果EMP50S 德Klock Nanotech 納米級(jí)3D測量儀 Nisene 等離子開封及化學(xué)開封設(shè)備德Mecwins 掃描式激光分析儀 RTI 自動(dòng)特性圖示儀美Filmetrics 薄膜厚度測量儀美Nanovea三維表面形貌儀

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類型	揭蓋式

Jelight 342 UVO3清洗機(jī)342是jelight 42的變化。與模型42不同的是,342年有一個(gè)更深的托盤,可調(diào)到4英寸高。由定時(shí)器控制,有1對(duì)媒體入口,允許連接外部的無限制的氣體來清除或加快建立臭氧紫外線。

Jelight 342 UVO3清洗機(jī) 產(chǎn)品信息

Jelight 342 UVO3清洗機(jī)342是jelight 42的變化。與模型42不同的是,342年有一個(gè)更深的托盤,可調(diào)到4英寸高。由定時(shí)器控制,有1對(duì)媒體入口,允許連接外部的無限制的氣體來清除或加快建立臭氧紫外線。

藍(lán)星宇科技專業(yè)研發(fā)設(shè)計(jì)組裝：紫外臭氧清洗機(jī)（UV清洗機(jī)），準(zhǔn)分子清洗機(jī)，等離子清洗機(jī)等儀器設(shè)備。引進(jìn)日本，德國，韓國*技術(shù)，設(shè)備已獲得眾多院校，研究所，高科技企業(yè)等客戶*認(rèn)可。

同時(shí)我們專注進(jìn)口科學(xué)儀器設(shè)備及材料，主要代理有：德國Nanoscribe 雙光子微納 3D 打印機(jī)（雙光子飛秒激光直寫儀），德國 SUSS 蘇斯光刻機(jī)，德國 Heidelberg 海德堡光刻機(jī)，美國 OAI 光刻機(jī)，德國 Raith 電子束光刻機(jī)，英國 Durtham 無掩膜光刻機(jī)，美國 Trion 刻蝕機(jī).沉積機(jī)，德國 Sentech 刻蝕機(jī).沉積機(jī)，德國 Optosol 吸收率發(fā)射率檢測儀，日本 SEN UV清洗機(jī).UV清洗燈，美國Jelight UV清洗機(jī)，美國 Nano-master 晶圓清洗機(jī)，美國 Arradiance 原子層沉積機(jī)，德國 WL 微波離子沉積機(jī)，德國 Iplas 微波離子沉積機(jī)，美國量子科學(xué) Quantum 綜合物性測量系統(tǒng)，德國 Diener 等離子清洗機(jī)等*技術(shù)產(chǎn)品；并可依據(jù)客戶需求，研發(fā)定制相關(guān)儀器及材料。我們以具競爭力的價(jià)格為客戶提供優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品與服務(wù)，為中國半導(dǎo)體/電子/光電/生物//高科技企業(yè)/高校學(xué)院/研究所/檢測分析等客戶提供設(shè)備儀器及材料。

托盤尺寸: 英寸:6.75 x 6.5 x 4”

Jelight 342 UVO3清洗機(jī)

關(guān)鍵詞：清洗機(jī)