食品機(jī)械設(shè)備網(wǎng)>產(chǎn)品庫(kù)>食品通用設(shè)備>清洗設(shè)備>清洗機(jī)>>美Jelight紫外臭氧清洗機(jī)

美Jelight紫外臭氧清洗機(jī)

參考價(jià)	面議

參考價(jià)

面議

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

公司名稱深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
品牌
型號(hào)
所在地深圳市
廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
更新時(shí)間2019/8/13 9:16:57
訪問(wèn)次數(shù)349

產(chǎn)品標(biāo)簽:

高壓清洗機(jī)凈化機(jī)黃花菜烘干機(jī)

在線詢價(jià)收藏產(chǎn)品

食品機(jī)械設(shè)備網(wǎng)采購(gòu)部電話：13777369734

聯(lián)系我們時(shí)請(qǐng)說(shuō)明是食品機(jī)械設(shè)備網(wǎng) 上看到的信息，謝謝!

索取相關(guān)資料

公司介紹主營(yíng)產(chǎn)品

藍(lán)星宇科技專業(yè)研發(fā)設(shè)計(jì)組裝：紫外臭氧清洗機(jī)（UV清洗機(jī)），準(zhǔn)分子清洗機(jī)，等離子清洗機(jī)等儀器設(shè)備。引進(jìn)日本，德國(guó)，韓國(guó)*技術(shù)，設(shè)備已獲得眾多院校，研究所，高科技企業(yè)等客戶*認(rèn)可。

同時(shí)我們專注進(jìn)口科學(xué)儀器設(shè)備及材料，主要代理有：德國(guó)Nanoscribe 雙光子微納 3D 打印機(jī)（雙光子飛秒激光直寫儀），德國(guó) SUSS 蘇斯光刻機(jī)，德國(guó) Heidelberg 海德堡光刻機(jī)，美國(guó) OAI 光刻機(jī)，德國(guó) Raith 電子束光刻機(jī)，英國(guó) Durtham 無(wú)掩膜光刻機(jī)，美國(guó) Trion 刻蝕機(jī).沉積機(jī)，德國(guó) Sentech 刻蝕機(jī).沉積機(jī)，德國(guó) Optosol 吸收率發(fā)射率檢測(cè)儀，日本 SEN UV清洗機(jī).UV清洗燈，美國(guó)Jelight UV清洗機(jī)，美國(guó) Nano-master 晶圓清洗機(jī)，美國(guó) Arradiance 原子層沉積機(jī)，德國(guó) WL 微波離子沉積機(jī)，德國(guó) Iplas 微波離子沉積機(jī)，美國(guó)量子科學(xué) Quantum 綜合物性測(cè)量系統(tǒng)，德國(guó) Diener 等離子清洗機(jī)等*技術(shù)產(chǎn)品；并可依據(jù)客戶需求，研發(fā)定制相關(guān)儀器及材料。我們以具競(jìng)爭(zhēng)力的價(jià)格為客戶提供優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品與服務(wù)，為中國(guó)半導(dǎo)體/電子/光電/生物//高科技企業(yè)/高校學(xué)院/研究所/檢測(cè)分析等客戶提供設(shè)備儀器及材料。

展開(kāi)顯示更多內(nèi)容

產(chǎn)品分類半導(dǎo)體微納工藝設(shè)備光刻機(jī)系統(tǒng)（歐美日進(jìn)口）真空鍍膜/薄膜沉積離子刻蝕與沉積勻膠涂覆機(jī) 輔助工藝 UV清洗-等離子清洗設(shè)備紫外線UV清洗機(jī) 準(zhǔn)分子清洗機(jī) 等離子清洗機(jī) UV清洗燈UV固化燈曝光燈 UV固化機(jī)UV解膠機(jī) 電源.安定器 UV殺菌機(jī) UV能量計(jì) 半導(dǎo)體微納檢測(cè)儀器 JEOL 日本電子儀器設(shè)備德Bruker原子力顯微鏡/光學(xué)輪廓儀/臺(tái)階儀/紅外光譜儀 ALPHA II FTIR光譜儀 YXLON 高分辨率X射線檢測(cè)設(shè)備 TEK半導(dǎo)體參數(shù)分析儀美國(guó) Denton Vacuum金/碳鍍膜機(jī) 半導(dǎo)體測(cè)試探針臺(tái)-智果EMP50S 德Klock Nanotech 納米級(jí)3D測(cè)量?jī)x Nisene 等離子開(kāi)封及化學(xué)開(kāi)封設(shè)備德Mecwins 掃描式激光分析儀 RTI 自動(dòng)特性圖示儀美Filmetrics 薄膜厚度測(cè)量?jī)x 美Nanovea三維表面形貌儀

產(chǎn)品簡(jiǎn)介在線詢價(jià)

類型	長(zhǎng)龍式

美Jelight紫外臭氧清洗機(jī)&臭氧發(fā)生器受到損傷或發(fā)生晶體缺陷的現(xiàn)象。光清洗對(duì)物體表面微細(xì)部位（如孔穴、微細(xì)溝槽等）具有有效而*的清洗效果。由于紫外光是納米短波紫外線，能夠射入材料表面的極為細(xì)微的部位，發(fā)生光敏氧化反應(yīng)，充分表現(xiàn)出光清洗的*性。

美Jelight紫外臭氧清洗機(jī) 產(chǎn)品信息

美Jelight紫外臭氧清洗機(jī)&臭氧發(fā)生器美國(guó)JELIGHT公司成立于一九七八年，一直致力于為科研，工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域設(shè)計(jì)和制造紫外相關(guān)產(chǎn)品。主要產(chǎn)品包括：Double Bore Lamps雙筒燈 (低壓汞蒸氣)，Capillary Lamps毛細(xì)管水銀燈(低壓汞蒸氣)，Grid Lamps隔柵燈(低壓汞蒸氣)，Aperture Phosphor Coated Lamps(低壓汞蒸氣)，中壓燈Medium Pressure Lamps (UV Curing and Additive Lamps)，紫外臭氧清洗機(jī)UVO Cleaner，晶圓記憶消除器Wafer and EPROM Erasers (CHIPnERASER)，臭氧發(fā)生器Ozone Generator。

　
美國(guó)JELIGHT紫外臭氧清洗機(jī)
JELIGHT 紫外清洗機(jī)是一種快速干法表面清洗工具。其原理是利用紫外光子對(duì)有機(jī)物質(zhì)所起的光敏氧化作用以達(dá)到清洗粘附在物體表面上的有機(jī)化合物（碳?xì)浠衔铮┑哪康?。是清除硅、砷化鎵、石英、藍(lán)寶石、玻璃、云母、陶瓷、金屬等表面有機(jī)污染物的安全、有效的方法。除清洗外，JELIGHT紫外清洗機(jī)還可用于表面改質(zhì)，如通過(guò)紫外處理后，涂層與表面的粘附力可大大增加，并可用于生物芯片制作過(guò)程中PDMS鍵合等。

　
產(chǎn)品型號(hào)目錄:

　
紫外清洗優(yōu)點(diǎn)
• 被清洗的表面除了光子，不與任何物體發(fā)生接觸，有機(jī)物經(jīng)過(guò)紫外光照射發(fā)生光敏氧化反應(yīng)后，生成可揮發(fā)性氣體（CO2、CO、H2O等）從表面消散，隨著排風(fēng)系統(tǒng)抽走。
• 表面潔凈度高，且不會(huì)像溶液清洗時(shí)發(fā)生二次污染。
• 光清洗的表面不會(huì)受到損傷，由于光子的能量相對(duì)比氬等離子體濺射或惰性氣體離子轟擊的能量小，光清洗后的表面不會(huì)受到損傷或發(fā)生晶體缺陷的現(xiàn)象。
• 光清洗對(duì)物體表面微細(xì)部位（如孔穴、微細(xì)溝槽等）具有有效而*的清洗效果。由于紫外光是納米短波紫外線，能夠射入材料表面的極為細(xì)微的部位，發(fā)生光敏氧化反應(yīng)，充分表現(xiàn)出光清洗的*性。

相關(guān)應(yīng)用
• 在進(jìn)行薄膜沉積之前*行基片清洗。清除浮渣和穩(wěn)定化處理光刻膠。超高真空度密封。
• 清洗硅芯片，透鏡，反光鏡，太陽(yáng)能面板，冷軋鋼，慣性引導(dǎo)零件和 GaAs芯片
• 清潔焊劑，混合電路以及平板LCD顯示器
• 蝕刻特氟隆，氟橡膠以及其它有機(jī)材料
• 增強(qiáng)GaAs 和Si氧化物鈍化表面
• 增強(qiáng)玻璃的除氣作用
• 基片藍(lán)膜去除
• 增強(qiáng)塑料表面的鍍膜的粘附性
• 基片終測(cè)后墨跡清楚
• 去除光刻膠
• 平板顯示器/液晶顯示器
• 去除光刻機(jī)臺(tái)上的光刻膠殘留物
• 在電路板封裝和打片之前清洗
• 光纖
• 增強(qiáng)表面親水特性
• 為生物科學(xué)應(yīng)用做清洗和消毒
• 光學(xué)透鏡
• 其它應(yīng)用