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美國(guó)SCS旋轉(zhuǎn)涂覆儀G3系列

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公司名稱深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
品牌
型號(hào)
所在地深圳市
廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
更新時(shí)間2019/8/13 9:31:30
訪問(wèn)次數(shù)473

產(chǎn)品標(biāo)簽:

美國(guó)SCS旋轉(zhuǎn)涂覆儀凈化機(jī)黃花菜烘干機(jī)

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藍(lán)星宇科技專業(yè)研發(fā)設(shè)計(jì)組裝：紫外臭氧清洗機(jī)（UV清洗機(jī)），準(zhǔn)分子清洗機(jī)，等離子清洗機(jī)等儀器設(shè)備。引進(jìn)日本，德國(guó)，韓國(guó)*技術(shù)，設(shè)備已獲得眾多院校，研究所，高科技企業(yè)等客戶*認(rèn)可。

同時(shí)我們專注進(jìn)口科學(xué)儀器設(shè)備及材料，主要代理有：德國(guó)Nanoscribe 雙光子微納 3D 打印機(jī)（雙光子飛秒激光直寫儀），德國(guó) SUSS 蘇斯光刻機(jī)，德國(guó) Heidelberg 海德堡光刻機(jī)，美國(guó) OAI 光刻機(jī)，德國(guó) Raith 電子束光刻機(jī)，英國(guó) Durtham 無(wú)掩膜光刻機(jī)，美國(guó) Trion 刻蝕機(jī).沉積機(jī)，德國(guó) Sentech 刻蝕機(jī).沉積機(jī)，德國(guó) Optosol 吸收率發(fā)射率檢測(cè)儀，日本 SEN UV清洗機(jī).UV清洗燈，美國(guó)Jelight UV清洗機(jī)，美國(guó) Nano-master 晶圓清洗機(jī)，美國(guó) Arradiance 原子層沉積機(jī)，德國(guó) WL 微波離子沉積機(jī)，德國(guó) Iplas 微波離子沉積機(jī)，美國(guó)量子科學(xué) Quantum 綜合物性測(cè)量系統(tǒng)，德國(guó) Diener 等離子清洗機(jī)等*技術(shù)產(chǎn)品；并可依據(jù)客戶需求，研發(fā)定制相關(guān)儀器及材料。我們以具競(jìng)爭(zhēng)力的價(jià)格為客戶提供優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品與服務(wù)，為中國(guó)半導(dǎo)體/電子/光電/生物//高科技企業(yè)/高校學(xué)院/研究所/檢測(cè)分析等客戶提供設(shè)備儀器及材料。

展開(kāi)顯示更多內(nèi)容

產(chǎn)品分類半導(dǎo)體微納工藝設(shè)備光刻機(jī)系統(tǒng)（歐美日進(jìn)口）真空鍍膜/薄膜沉積離子刻蝕與沉積勻膠涂覆機(jī) 輔助工藝 UV清洗-等離子清洗設(shè)備紫外線UV清洗機(jī) 準(zhǔn)分子清洗機(jī) 等離子清洗機(jī) UV清洗燈UV固化燈曝光燈 UV固化機(jī)UV解膠機(jī) 電源.安定器 UV殺菌機(jī) UV能量計(jì) 半導(dǎo)體微納檢測(cè)儀器 JEOL 日本電子儀器設(shè)備德Bruker原子力顯微鏡/光學(xué)輪廓儀/臺(tái)階儀/紅外光譜儀 ALPHA II FTIR光譜儀 YXLON 高分辨率X射線檢測(cè)設(shè)備 TEK半導(dǎo)體參數(shù)分析儀美國(guó) Denton Vacuum金/碳鍍膜機(jī) 半導(dǎo)體測(cè)試探針臺(tái)-智果EMP50S 德Klock Nanotech 納米級(jí)3D測(cè)量?jī)x Nisene 等離子開(kāi)封及化學(xué)開(kāi)封設(shè)備德Mecwins 掃描式激光分析儀 RTI 自動(dòng)特性圖示儀美Filmetrics 薄膜厚度測(cè)量?jī)x 美Nanovea三維表面形貌儀

產(chǎn)品簡(jiǎn)介在線詢價(jià)

類型	通道式

美國(guó)SCS旋轉(zhuǎn)涂覆儀G3系列可儲(chǔ)存 30 個(gè)曲線，每個(gè)曲線可設(shè)定 20 步（如果使用外部計(jì)算機(jī)控制，則程序存儲(chǔ)數(shù)量不限）。

美國(guó)SCS旋轉(zhuǎn)涂覆儀G3系列產(chǎn)品信息

美國(guó)SCS旋轉(zhuǎn)涂覆儀G3系列

是一款用于實(shí)驗(yàn)室、研發(fā)的桌面式儀器，應(yīng)用于在平面基板上高精度的液體材料涂敷，象光刻膠、聚酰亞胺、金屬有機(jī)化合物、攙雜劑、硅質(zhì)薄膜等。G3 旋轉(zhuǎn)涂敷機(jī)系統(tǒng)在操作精度和編程靈活性方面采用了新的標(biāo)準(zhǔn)，具有很高的旋轉(zhuǎn)精度和重復(fù)精度，擁有精度*的加速/減速控制。
G3 系列共有 G3-8, G3P-8, G3P-12 和 G3P-15 四個(gè)型號(hào)。

G3-8: G3 系列不可編程旋轉(zhuǎn)涂敷機(jī)，8"旋涂盤，單一涂敷程序。

G3P-8: G3 系列可編程旋轉(zhuǎn)涂敷機(jī)，8"旋涂盤，可儲(chǔ)存 30 個(gè)涂敷程序，每個(gè)程序可以有 20 步。G3P-12: G3 系列可編程旋轉(zhuǎn)涂敷機(jī)，12"旋涂盤，可儲(chǔ)存 30 個(gè)涂敷程序，每個(gè)程序可以有 20 步。G3P-15: G3 系列可編程旋轉(zhuǎn)涂敷機(jī)，15"旋涂盤，可儲(chǔ)存 30 個(gè)涂敷程序，每個(gè)程序可以有 20 步。

功能及技術(shù)規(guī)格：

l 基于微處理器控制，利用前面板 LCD 顯示屏及鍵盤可快速，簡(jiǎn)單的編程。

l 閉環(huán)伺服電機(jī)控制提保證精確的速度調(diào)節(jié)

l 使用可選的 PC 界面軟件通過(guò)通訊端口實(shí)現(xiàn)外部控制，包括編程、曲線儲(chǔ)存、PID、診斷、真空開(kāi)/關(guān)、慢速中心定位及可編程初始位置。

l 可儲(chǔ)存 30 個(gè)曲線，每個(gè)曲線可設(shè)定 20 步（如果使用外部計(jì)算機(jī)控制，則程序存儲(chǔ)數(shù)量不限）

l 程序可調(diào)整的旋轉(zhuǎn)增量為 1.0 轉(zhuǎn)/分，定時(shí)增量為 0.1 秒的，停留時(shí)間的增量為 1.0 秒，在每次循環(huán)中可以實(shí)現(xiàn)*的重復(fù)精度。

l 對(duì)于可編程的機(jī)器，編碼器允許真空吸盤（卡盤）停止在初始位置

l 在可編程的機(jī)器系統(tǒng)中包括耐化學(xué)腐蝕的特氟綸涂層的底碗和完整的排泄系統(tǒng)

l 客戶評(píng)估的厚度均勻度范圍在±3%內(nèi)

l 可編程的機(jī)器均標(biāo)準(zhǔn)配備聯(lián)鎖鉸鏈蓋子和安全玻璃觀察窗