超純水高純水設(shè)備應用行業(yè)：
新能源行業(yè)（光伏、微電子、太陽能、新材料）、電子（集成電路、顯像管、線路板、電腦元件、電容器等）、醫(yī)藥、電力（核電、光電、火力發(fā)電等）、光學、半導體、單/多晶硅、表面處理、化工、電鍍等相關(guān)行業(yè)。
超純水高純水設(shè)備技術(shù)參數(shù)：
| 指標 | 參數(shù) |
| EDI要求： | 反滲透RO產(chǎn)水，電導率1-50μs/cm，較大允許電導率≤50μs/cm |
| pH值： | 7.5—9n |
| 溫度： | 15℃--35℃o |
| 進水壓力： | 0.15—0.4MPao |
| 濃水進水壓力： | 0.10—0.3MPao |
| 產(chǎn)水壓力： | 0.05—0.25MPao |
| 濃水出水壓力： | 0.02—0.2MPao |
| 進水硬度： | ＜1.0ppm(以CaCO 計） |
| 進水有機物： | TOC＜0.5ppm |
| 進水氧化劑： | Cl2（活性）＜0.03ppm |
| 進水硅： | SiO2＜0.5ppmo |
| 進水總CO2： | ＜3ppmn |
| 進水顆粒度： | ＜1μm |
超純水設(shè)備性能介紹：
（1）超純水設(shè)備反滲透系統(tǒng)采用全自動方式控制，主要元件采用進口元件，穩(wěn)定性高，操作簡單方便。產(chǎn)水水質(zhì)高，產(chǎn)水穩(wěn)定度高。
（2）超純水設(shè)備配備濃水調(diào)節(jié)閥，操作方便。連續(xù)不間斷制水，不因再生而停機。
（3）超純水設(shè)備配備有紫外線及膜濾器，防止菌種對EDI及水質(zhì)的影響。模塊化生產(chǎn)，并可實現(xiàn)全自動控制。
（4）超純水設(shè)備通過專業(yè)技術(shù)，確保EDI系統(tǒng)短時停機或長時間停機時水質(zhì)保持穩(wěn)定。與傳統(tǒng)工藝相比無須酸堿再生，無污水排放。無酸堿再生設(shè)備和化學藥品儲運。
（5）超純水設(shè)備采用*EDI膜堆，性能穩(wěn)定，使用壽命長，連續(xù)出水水質(zhì)穩(wěn)定無波動。
（6）超純水設(shè)備具有無水保護和高、低壓力保護等多種裝置功能。設(shè)備結(jié)構(gòu)緊湊，占地面積小。
（7）超純水設(shè)備所有控制采用全自動方式，主要元件采用進口元件，穩(wěn)定性高，操作簡單方便。運行費用及維修成本低。
（8）超純水設(shè)備主要電器元件采用法國施耐德，保質(zhì)保量，并按配置設(shè)計。.運行操作簡單，勞動強度低。
