PECVD系統(tǒng)是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學(xué)活性很強(qiáng)，很容易發(fā)生反應(yīng)，在基片上沉積出所期望的薄膜。 該系統(tǒng)廣泛應(yīng)用于沉積高質(zhì)量、SiO2薄膜、Si3N4薄膜、SiC薄膜、硬質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜和炭納米管（CNT）、石墨烯材料等，是科研機(jī)構(gòu)和大學(xué)實(shí)驗室的理想產(chǎn)品。
產(chǎn)品介紹：
該設(shè)備是一款定制的PECVD系統(tǒng)，增加了傾斜、旋轉(zhuǎn)功能。該系統(tǒng)包含等離子射頻電源，高溫管式爐，4通道質(zhì)量流量供氣系統(tǒng)和分子泵機(jī)組。可用于生長納米或石墨烯材料。
技術(shù)參數(shù)：
| 產(chǎn)品名稱 | 定制旋轉(zhuǎn)PECVD系統(tǒng) |
| 滑軌管式爐部分 | |
| 產(chǎn)品型號 | KJ-T1200-S80-DZPECVD-R |
| 爐管尺寸 | 80*長度1600mm 可選其他直徑Φ50，60，80，100，120，150mm |
| 爐管材質(zhì) | 石英管 |
| 加熱區(qū) | 單溫區(qū)，溫區(qū)長度400mm |
| 工作溫度 | 1100℃ |
| 溫度 | 1200℃ |
| 溫控方式 | K型熱電偶 |
| 控制方式 | 觸屏控制 |
| 控溫精度 | ±1℃ |
| 溫控保護(hù) | 具有超溫和斷偶保護(hù)功能 |
| 升溫速率 | 0-20ºC/min可調(diào) ，建議10ºC/min |
| 加熱元件 | 含鉬電阻絲 |
| 工作電壓 | AC 220V 單相 50HZ （電路電壓用戶可選擇定制） |
| 加熱功率 | 3KW |
| 爐膛材料 | 氧化鋁多晶纖維 |
| 法蘭接頭 | 標(biāo)配配有不銹鋼真空法蘭，已安裝機(jī)械壓力表和不銹鋼截止閥 |
| 密封系統(tǒng) | 該爐爐管與法蘭之間采用硅膠O型圈擠壓密封、撤卸方便、可重復(fù)撤卸，磁流體密封，氣密性好可實(shí)現(xiàn)爐管旋轉(zhuǎn)過程中的高真空。 |
| 真空系統(tǒng)部分 | |
| 主要參數(shù) | 采用高真空分子泵組，爐管內(nèi)真空度可達(dá)10-3pa |
| 氣路系統(tǒng)部分 | |
| 名稱 | 四路質(zhì)量流量計（量程可選） |
| 等離子電源部分 | |
| 功率范圍 | 0-500W（連續(xù)可調(diào)） |
| 售后服務(wù) | 質(zhì)保一年，終身保修（耗材類：高溫密封圈、爐管、加熱元件等及人為損壞不屬于質(zhì)保范圍） |
| 更多規(guī)格可根據(jù)客戶需求定制 | |
1、我公司對所供設(shè)備提供質(zhì)保一年保修服務(wù)（易損件除外），在保修期內(nèi)因設(shè)備質(zhì)量原因造成的設(shè)備損壞或故障，均予以免費(fèi)維修。保修期滿后，仍提供終身的、優(yōu)質(zhì)的維修服務(wù)。
2、在設(shè)備使用過程中如遇故障的，我公司將盡快做出處理方案，確保設(shè)備正常運(yùn)行。
3、我公司設(shè)提供免費(fèi)的設(shè)備操作培訓(xùn)和簡單故障排除維修培訓(xùn)。
4、我公司技術(shù)人員可提供(產(chǎn)品安裝調(diào)試、整機(jī)維護(hù)、技術(shù)講解及操作指導(dǎo)等)。
5、本公司可提供運(yùn)輸服務(wù)，包裝方式均按照標(biāo)準(zhǔn)安全包裝進(jìn)行。隨機(jī)技術(shù)資料齊全（用戶手冊、保修手冊、有關(guān)資料及配件、隨機(jī)工具等）。
6、本公司所有產(chǎn)品均有歐盟CE質(zhì)量認(rèn)證。
