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VTC-2RF 300W射頻等離子磁控濺射鍍膜儀

參考價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱深圳市科晶智達科技有限公司
  • 品       牌
  • 型       號
  • 所  在  地
  • 廠商性質其他
  • 更新時間2023/1/12 9:33:34
  • 訪問次數(shù)336
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深圳市科晶智達科技有限公司2001年成立于深圳,是一家聚焦服務于高校、研究院所、企業(yè)研發(fā)部門的國家技術企業(yè),長期致力于打造安全、高效、智能的實驗研發(fā)一站式服務平臺,為科學研究與產業(yè)孵化賦能。 深圳科晶與美國MTI、合肥科晶、沈陽科晶同屬MTI-科晶聯(lián)盟,目前已經搭建輻射的服務網絡,精心為科學家們的實驗室提供交鑰匙工程解決方案。 深圳科晶創(chuàng)立初期主要為半導體、精密光學器件提供潔凈存儲和安全轉移所使用的包裝制品,產品包括各種塑料膠盒、膜盒、晶圓盒、海綿盒、花籃等。 公司2008年開始進行材料相關研發(fā)設備和鋰電池實驗設備的開發(fā),經過十多年的積累深圳科晶現(xiàn)已成為新能源和新材料基礎研究、小試與中試、測試與評估的整體解決方案規(guī)劃者和提供者,產品應用涵蓋了石墨烯材料、*陶瓷、*納米材料、鋰離子電池、超級電容器、燃料電池、固態(tài)電池、鈣鈦礦太陽能電池、功能薄膜等方向。 主要產品系列:按應用與工藝更新產品系列 ? 材料基礎研究實驗裝備(包括混料、涂覆、鍍膜、壓制、燒結、切割、研磨、拋光、粉碎、制粉、造粒、熔煉等); ? 電池研發(fā)實驗制備裝備(包括鋰離子電池、固態(tài)電池、超級電容器、金屬空氣電池、鈉離子電池、液流電池、太陽能電池等制備方案); ? 電池安全測試裝備(符合GB31241 、GB31485、IEC62133、UN38.3等國內標準等); ? 鋰離子電池中、小試生產制備全流程系統(tǒng)裝備方案,交鑰匙工程(包括扣式、柱狀、軟包、方形鋁殼等各種全電池制備方案); ? 燃料電池研發(fā)實驗制備裝備(包括固體氧化物、質子交換膜燃料電池等制備方案); ? 鈣鈦礦太陽能電池研發(fā)實驗制備; ? 功能薄膜研發(fā)實驗設備(包括混料、涂布、輥壓/復合、分切、復卷等); ? 高通量材料基因組實驗設備(包括配液、配粉、混合分散、壓片、燒結、測試表征等); 公司設立了開放的研發(fā)實驗室和設備體驗中心。對于鋰電池行業(yè),可實現(xiàn)公斤級別材料制備及電池研發(fā),能接受上門小批量材料驗證、定向工藝研究及小量成品電池制備等研發(fā)工作。 深圳科晶強大的研發(fā)團隊支撐了豐富的產品鏈,針對現(xiàn)有產品具有知識產權的發(fā)明和實用新型共40多項(包含PCT和國內發(fā)明),并參與行業(yè)多項標準制定且獲得多個行業(yè)協(xié)會認可。 本著“精誠合作、創(chuàng)新共贏”的宗旨,深圳科晶先后與清華大學、南開大學、上海交通大學、深圳大學、中航發(fā)航材院、溧陽天目湖研究院等十多個高校機構和企業(yè)簽署產學研合作。與此同時,深圳科晶設立了對外服務的公共試驗平臺,承接科研人員參觀交流與現(xiàn)場測試體驗,配備行業(yè)的售前技術人員協(xié)助研究者充分了解相關工藝和設備,縮短調研考察與決策時間。該實驗室平臺也可以承接相關工藝試驗服務和培訓咨詢服務,協(xié)助細分領域的科研工作者快速掌握產業(yè)工藝,從而專注前沿研發(fā)。 材料科學是基礎科學??v觀人類科技的發(fā)展歷史,新型材料的發(fā)現(xiàn)和應用將帶來巨大的產業(yè)機遇,而*的實驗裝備和儀器是為科研和應用保駕護航的重要保障??凭F隊將一如既往秉承“客戶為本,技術為導,誠信為基,積極創(chuàng)新”的運營理念 ,竭力為科學研究和科技發(fā)展做出貢獻。
封口設備
簡要描述:VTC-2RF是一款小型的射頻(RF)等離子體磁控濺射鍍膜儀系統(tǒng),系統(tǒng)中包含了所有所需的配件,如300W(13.5MHz)的RF電源、2“的磁控濺射頭、石英真空腔體、真空泵和溫度控制器等。對于制作一些金屬薄膜及非金屬薄膜,它是一款物美價廉的實驗幫手。
VTC-2RF 300W射頻等離子磁控濺射鍍膜儀 產品信息

技術參數(shù)

輸入電源

  • 220VAC 50/60Hz, 單相
  • 800W (包括真空泵)

等離子源

一個300W,13.5MHz的射頻電源安裝在移動柜內

(點擊圖片查看詳細資料)

磁控濺射頭

  • 一個 2英寸磁控濺射頭(帶有水冷夾層),采用快速接頭與真空腔體相連接
  • 靶材尺寸: 直徑為50mm,大厚度6.35mm
  • 一個快速擋板安裝在法蘭上(手動操作,見圖左3)
  • 濺射頭所需冷卻水:流速10L/min(儀器中配有一臺流速為16L/min的循環(huán)水冷機)
  • 同時可選配1英寸濺射頭

真空腔體

  • 真空腔體:160 mm OD x 150 mm ID x 250mm H,采用高純石英制作
  • 密封法蘭:直徑為165 mm . 采用金屬鋁制作,采用硅膠密封圈密封
  • 一個不銹鋼網罩住整個石英腔體,以屏蔽等離子體
  • 真空度:10-3 Torr (采用雙極旋片真空泵)
  • 10-5 torr (采渦旋分子泵)

載樣臺

  • 載樣臺可旋轉(為了制膜更加均勻)并可加熱
  • 載樣臺尺寸:直徑50mm (大可放置2英寸的基片)
  • 旋轉速度:1 - 20 rpm
  • 樣品的MAX加熱溫度為700℃,(短期使用,恒溫不超過1小時),長期使用溫度500℃
  • 控溫精度+/- 10℃

真空泵

我公司有多種真空泵可選,請點擊圖片,或是致電我公司銷售

薄膜測厚儀

  • 一個精密的石英振動薄膜測厚儀安裝在儀器上,可實時監(jiān)控薄膜的厚度,分辨率為0.10 Å
  • LED顯示屏顯示,同時也輸入所制作薄膜的相關數(shù)據(jù)

外形尺寸

質保和質量認證

  • 一年質保期,終生維護
  • CE認證

使用注意事項

  • 這款2英寸的射頻濺射鍍膜儀主要是用于在單晶基片上制備氧化物膜,所以并不需要太高的真空度
  • 為了較好地排出真空腔體中的氧氣,建議用5%H2+95 %N2對真空腔體清洗2-3次,可有效減少真空腔體中的氧含量
  • 請用純度大于5N的Ar來進行等離子濺射,甚至5N的Ar中也含有10- 100 ppm的氧和水,所以建議將鋼瓶中的惰性氣體通過凈化系統(tǒng)過后,再導入到真空腔體內


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