VT6000材料表征測(cè)量高分辨率超景深共聚焦顯微鏡基于光學(xué)共軛共焦原理，主要采用3D捕獲的成像技術(shù)顯微成像測(cè)量，具有較高的三維圖像分辨率。一般用于略粗糙度的工件表面的微觀形貌檢測(cè)，可分析粗糙度、凹坑瑕疵、溝槽等參數(shù)。
產(chǎn)品功能
(1)設(shè)備具備表征微觀形貌的輪廓尺寸及粗糙度測(cè)量功能；
(2)設(shè)備具備自動(dòng)拼接功能，能夠快速實(shí)現(xiàn)大區(qū)域的拼接縫合測(cè)量；
(3)設(shè)備具備一體化操作的測(cè)量與分析軟件，預(yù)先設(shè)置好配置參數(shù)再進(jìn)行測(cè)量，軟件自動(dòng)統(tǒng)計(jì)測(cè)量數(shù)據(jù)并提供數(shù)據(jù)報(bào)表導(dǎo)出功能，即可快速實(shí)現(xiàn)批量測(cè)量功能；
(4)設(shè)備具備調(diào)整位置、糾正、濾波、提取四大模塊的數(shù)據(jù)處理功能；
(5)設(shè)備具備粗糙度分析、幾何輪廓分析、結(jié)構(gòu)分析、頻率分析、功能分析等五大分析功能；
(6)設(shè)備具備一鍵分析和多文件分析等輔助分析功能，可實(shí)現(xiàn)批量數(shù)據(jù)文件的快速分析功能；
VT6000材料表征測(cè)量高分辨率超景深共聚焦顯微鏡可廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造及封裝工藝檢測(cè)、3C電子玻璃屏及其精密配件、光學(xué)加工、微納材料制造、汽車零部件、MEMS器件等超精密加工行業(yè)及航空航天、科研院所等領(lǐng)域中?？蓽y(cè)各類包括從光滑到粗糙、低反射率到高反射率的物體表面，從納米到微米級(jí)別工件的粗糙度、平整度、微觀幾何輪廓、曲率等。
應(yīng)用領(lǐng)域
對(duì)各種產(chǎn)品、部件和材料表面的面形輪廓、表面缺陷、磨損情況、腐蝕情況、平面度、粗糙度、波紋度、孔隙間隙、臺(tái)階高度、彎曲變形情況、加工情況等表面形貌特征進(jìn)行測(cè)量和分析。
應(yīng)用范例：
性能特色
1、高精度、高重復(fù)性
1）以轉(zhuǎn)盤共聚焦光學(xué)系統(tǒng)為基礎(chǔ)，結(jié)合高穩(wěn)定性結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)和3D重建算法，共同組成測(cè)量系統(tǒng)，保證儀器的高測(cè)量精度；
2）隔震設(shè)計(jì)能夠消減底面振動(dòng)噪聲，儀器在嘈雜的環(huán)境中穩(wěn)定可靠，具有良好的測(cè)量重復(fù)性。
2、一體化操作的測(cè)量分析軟件
1）測(cè)量與分析同界面操作，無(wú)須切換，測(cè)量數(shù)據(jù)自動(dòng)統(tǒng)計(jì)，實(shí)現(xiàn)了快速批量測(cè)量的功能；
2）可視化窗口，便于用戶實(shí)時(shí)觀察掃描過(guò)程；
3）結(jié)合自定義分析模板的自動(dòng)化測(cè)量功能，可自動(dòng)完成多區(qū)域的測(cè)量與分析過(guò)程；
4）幾何分析、粗糙度分析、結(jié)構(gòu)分析、頻率分析、功能分析五大功能模塊齊全；
5）一鍵分析、多文件分析，自由組合分析項(xiàng)保存為分析模板，批量樣品一鍵分析，并提供數(shù)據(jù)分析與統(tǒng)計(jì)圖表功能；
6）可測(cè)依據(jù)ISO/ASME/EUR/GBT等標(biāo)準(zhǔn)的多達(dá)300余種2D、3D參數(shù)。
3、精密操縱手柄
集成X、Y、Z三個(gè)方向位移調(diào)整功能的操縱手柄，可快速完成載物臺(tái)平移、Z向聚焦等測(cè)量前工作。
4、雙重防撞保護(hù)措施
除軟件ZSTOP設(shè)置Z向位移下限位進(jìn)行防撞保護(hù)外，另在Z軸上設(shè)計(jì)有機(jī)械電子傳感器，當(dāng)鏡頭觸碰到樣品表面時(shí)，儀器自動(dòng)進(jìn)入緊急停止?fàn)顟B(tài)，保護(hù)儀器，降低人為操作風(fēng)險(xiǎn)。
功能特點(diǎn)
1、測(cè)量模式多樣
單區(qū)域、多區(qū)域、拼接、自動(dòng)測(cè)量等多種測(cè)量模式可選擇，適應(yīng)多種現(xiàn)場(chǎng)應(yīng)用環(huán)境；
2、雙重防撞保護(hù)功能
Z軸上裝有防撞機(jī)械電子傳感器、軟件ZSTOP防撞保護(hù)功能，雙重保護(hù)；
3、分析功能豐富
3D：表面粗糙度、平整度、孔洞體積、幾何曲面、紋理方向、PSD等分析；
2D：剖面粗糙度、幾何輪廓測(cè)量、頻率、孔洞體積、Abbott參數(shù)等分析。
應(yīng)用場(chǎng)景
1、鐳射槽
測(cè)量晶圓上激光鐳射槽的深度：半導(dǎo)體后道制造中，在將晶圓分割成一片片的小芯片前，需要對(duì)晶圓進(jìn)行橫縱方向的切割，為確保減少切割引發(fā)的崩邊損失，會(huì)先采用激光切割機(jī)在晶圓表面燒蝕出U型或W型的引導(dǎo)槽，在工藝上需要對(duì)引導(dǎo)槽的槽型深寬尺寸進(jìn)行檢測(cè)。
2、光伏
在太陽(yáng)能電池制作工程中，柵線的高寬比決定了電池板的遮光損耗及導(dǎo)電能力，直接影響著太陽(yáng)能電池的性能。共聚焦顯微鏡可以對(duì)柵線進(jìn)行快速檢測(cè)。此外，太陽(yáng)能電池制作過(guò)程中，制絨作為關(guān)鍵核心工藝，金字塔結(jié)構(gòu)的質(zhì)量影像減反射焰光效果，是光電轉(zhuǎn)換效率的重要決定因素。共聚焦顯微鏡具有納米級(jí)別的縱向分辨能力，能夠?qū)﹄姵匕褰q面這種表面反射率低且形貌復(fù)雜的樣品進(jìn)行三維形貌重建。
3、其他
部分技術(shù)指標(biāo)
| 型號(hào) | VT6100 | |
行程范圍 | X | 100mm |
| Y | 100mm | |
| Z | 100mm | |
| 外形尺寸 | 520*380*600mm | |
| 儀器重量 | 50kg | |
| 測(cè)量原理 | 共聚焦光學(xué)系統(tǒng) | |
| 顯微物鏡 | 10×;20×;50×;100× | |
| 視場(chǎng)范圍 | 120×120 μm~1.2×1.2 mm | |
高度測(cè)量 | 重復(fù)性(1σ) | 12nm |
| 顯示分辨率 | 0.5nm | |
寬度測(cè)量 | 重復(fù)性(1σ) | 40nm |
| 顯示分辨率 | 1nm | |
| XY位移平臺(tái) | 負(fù)載 | 10kg |
| 控制方式 | 電動(dòng) | |
| Z0軸掃描范圍 | 10mm | |
| 物鏡塔臺(tái) | 5孔電動(dòng) | |
| 光源 | 白光LED | |
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