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詳細(xì)介紹
SPECTROLAB 新型金屬分析儀 - 產(chǎn)品詳情
SPECTROLAB 新型金屬分析儀簡(jiǎn)介
SPECTRO公司推出的全新SPECTROLAB 新型金屬分析儀大大提高了分析性能，增強(qiáng)了靈活性，操作更為簡(jiǎn)便。根據(jù)用戶要戶要求量身定制，十種標(biāo)準(zhǔn)基體：鐵、鋁、銅、鎳、鈷、鎂、鈦、錫、鉛和鋅，可以與五種貴金屬基體：金、銀、鉑、鈀、釕組合配置。
SPECTROLAB光學(xué)系統(tǒng)集合了傳統(tǒng)光電管光學(xué)系統(tǒng)和CCD全譜光學(xué)系統(tǒng)的所有優(yōu)點(diǎn)。主光學(xué)系統(tǒng)內(nèi)部包括兩個(gè)獨(dú)立的光譜模塊---光電管光學(xué)部分和CCD光學(xué)系統(tǒng)，信號(hào)通過高性能數(shù)據(jù)讀出系統(tǒng)來處理。配備現(xiàn)代化的光譜技術(shù)和高質(zhì)量的組成部件，SPECTROLAB適用于各種分析要求，可廣泛應(yīng)用于金屬冶煉、金屬加工與回收等行業(yè)。
SPECTROLAB 新型金屬分析儀特點(diǎn)
多光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì):每臺(tái)儀器設(shè)置3個(gè)光學(xué)系統(tǒng)
數(shù)學(xué)化激發(fā)光源
快速分析:標(biāo)準(zhǔn)檢測(cè)時(shí)間18秒
TRS時(shí)間解析光譜技術(shù)
精確的分析結(jié)果:的光源技術(shù)改進(jìn)了檢出限和分析精度。靈敏度可以達(dá)到ppm甚至更底量級(jí)
SSE單火花測(cè)量技術(shù)，分析金屬的夾雜物。例如鋼鐵中的酸溶鋁和酸不溶鋁
降低操作成本：檢測(cè)過程中能有效減少50%的氬氣耗量
減少了維護(hù)工作量：自動(dòng)氬氣沖洗系統(tǒng)可清除樣品激發(fā)殘留粉塵，5000次激發(fā)免清洗
操作簡(jiǎn)單：SPECTRO Spark Analyzer軟件便于分析操作，而且每一步操作都簡(jiǎn)單直觀
更實(shí)用的設(shè)計(jì)：設(shè)計(jì)時(shí)充分考慮了產(chǎn)生過程中的工作空間，儀器占地面積小，儀器底部裝有腳輪。使用和更換部件非常方便根據(jù)用戶要求，提供德國原廠校準(zhǔn)工作曲線和校準(zhǔn)標(biāo)樣。
SPECTROLAB 的尾氣過濾系統(tǒng)可避免火花臺(tái)中的粉塵排至實(shí)驗(yàn)室房間。
SPECTROLAB 新型金屬分析儀參數(shù)
| 主要特點(diǎn) | 1. 多光學(xué)系統(tǒng)配置,最多可以設(shè)置3個(gè)光學(xué)系統(tǒng)。 |
| 2. 所有元素采用一級(jí)譜線，靈敏度高，光譜干擾小。 | |
| 3. 3000型數(shù)字化光源。精度和檢出限明顯改善。無須輔助電極，免維護(hù)。 | |
| 4. 原廠校準(zhǔn)工作曲線，用戶無須標(biāo)樣制作曲線，隨機(jī)提供德國SUS校準(zhǔn)標(biāo)樣。 | |
| 5. SAFT痕量元素分析技術(shù)，使分析靈敏度提高一個(gè)數(shù)量級(jí)，可以分析ppm級(jí)元素。激發(fā)光源全數(shù)字 化光源,CDD技術(shù),不需輔助間隙，能完成單基體和多基體分析任務(wù)。 | |
| 技術(shù)參數(shù) | 1. 光柵刻線3600條/mm光柵，色散率0.37 nm/mm (1級(jí)光譜) |
| 2. 波長(zhǎng)范圍120-800nm | |
| 3. 光柵焦距750mm | |
| 4. 最多可設(shè)置96個(gè)分析通道 | |
| 5. 環(huán)境適應(yīng)性強(qiáng)：無需防震、恒溫；工作溫度范圍：10-40℃。 | |
| 激發(fā)光源 | 全數(shù)字化光源,CDD技術(shù),不需輔助間隙，能完成單基體和多基體分析任務(wù) |
| 波長(zhǎng)范圍 | 120-800nm能完成氧氮?dú)涞冗h(yuǎn)紫外元素分析 |
| 檢測(cè)器 | 通道型檢測(cè)器：光電倍增管+全譜型檢測(cè)器：CCD |
| 分析時(shí)間 | 一個(gè)樣品標(biāo)準(zhǔn)分析時(shí)間在18秒以內(nèi)，最短可到9秒 |
| 設(shè)備耐用性及防護(hù)等級(jí) | 設(shè)備耐用性很好，故障率低，防護(hù)等級(jí)符合歐洲一級(jí)標(biāo)準(zhǔn) |
| 光柵個(gè)數(shù)及刻線數(shù) | 二塊全息光柵，刻線數(shù)分別為3600，2924條/mm |
| 光柵焦距 | 750mm |
| 光譜室數(shù)量 | 2個(gè)標(biāo)準(zhǔn)配置+1個(gè)可選 |
| 儀器分辨率 | 一級(jí)光譜分辨率9pm |
| 紫外元素分析條件實(shí) 現(xiàn)方式及日常維護(hù) | 密封充氬氣自循環(huán)紫外光學(xué)系統(tǒng)（技術(shù)），免日常維護(hù)，無污染，無噪音，無真空度波動(dòng)，故儀器冷開機(jī)等待時(shí)間短<0.5小時(shí)，消耗成本低，故障率低，穩(wěn)定好。 |
| 入射光方式 | 直射式采光+1根光導(dǎo)纖維采光導(dǎo)光 |
| 光室恒溫控制方式及校正 | 光室恒溫在17℃+/-0.2℃，自動(dòng)描跡校正狹縫飄移 |
| 火花臺(tái)板使用時(shí) 限及冷卻方式 | 開放式火花臺(tái)，適合于各種形狀大小(最重可分析30Kg)的樣品分析，能配各種小樣品分析夾具（最細(xì)可分析0.8mm細(xì)絲,可分析0.1mm薄片），火花臺(tái)板能完成至少30萬次激發(fā)，空氣冷卻 |
| 氬氣消耗量 | 待機(jī)時(shí)0.1升/分鐘,分析樣品時(shí)4升/分鐘 |
| 工作溫度及環(huán)境要求 | 工作溫度為10-30℃，濕度小于等于80% |
| 通道容量及分析基體 | 最多108個(gè)PMT+CCD全譜，能完成多基體分析 |
| 日常維護(hù)時(shí)限及頻率 | 火花臺(tái)5000次激發(fā)免清理 |
| 分析精度 | 很好（詳細(xì)見精度保證表） |
| 開機(jī)等待時(shí)間 | 冷開機(jī)等待半個(gè)小時(shí)即可使用，熱開機(jī)隨開隨用 |
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