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武漢安吉爾半導(dǎo)體精密電子行業(yè)EDI高純水設(shè)備關(guān)鍵設(shè)備及材料均采用國(guó)際主流*可靠產(chǎn)品，采用PLC＋觸摸屏控制，全套系統(tǒng)自動(dòng)化程度高，系統(tǒng)穩(wěn)定性高。大大節(jié)省人力成本和維護(hù)成本，水利用率高，運(yùn)行可靠，經(jīng)濟(jì)合理。使設(shè)備與其它同類產(chǎn)品相比較，具有更高的性價(jià)比和設(shè)備可靠性。

電子原料生產(chǎn)用EDI高純水設(shè)備安吉爾水處理設(shè)備，我公司設(shè)計(jì)的半導(dǎo)體精密電子行業(yè)EDI高純水設(shè)備采用成熟、可靠、*、自動(dòng)化程度高的二級(jí)反滲透+EDI+精混床除鹽水處理工藝，確保處理后的超純水水質(zhì)確保處理后出水電阻率達(dá)到18.2 MΩ.cm

半導(dǎo)體精密電子行業(yè)EDI設(shè)備/EDI超純水/EDI去離子水/EDI高純水設(shè)備的技術(shù)特點(diǎn)
電去離子(EDI)技術(shù)是一種將電滲析和離子交換有機(jī)結(jié)合在一起的脫鹽新工藝，英文名稱electrodeionization，縮寫EDI，該工藝過(guò)程取電滲析和離子交換兩者之長(zhǎng)，彌補(bǔ)對(duì)方之短，即利用離子交換深度脫鹽來(lái)克服電滲析極化而脫鹽不*，又利用電滲析極化而發(fā)生水電離產(chǎn)生H+和OH－實(shí)現(xiàn)樹(shù)脂自再生來(lái)克服樹(shù)脂失效后通過(guò)化學(xué)藥劑再生的缺陷。因而EDI技術(shù)是一種的除鹽工藝。

半導(dǎo)體精密電子行業(yè)EDI設(shè)備/EDI超純水/EDI去離子水/EDI高純水設(shè)備技術(shù)的*性
*不需化學(xué)再生藥劑，生產(chǎn)過(guò)程無(wú)任何污染，屬清潔生產(chǎn)；
*不需停機(jī)再生,連續(xù)生產(chǎn)水質(zhì)穩(wěn)定的高純水(15～18MΩ·cm)；
*運(yùn)行穩(wěn)定可靠，維護(hù)簡(jiǎn)單、運(yùn)行費(fèi)用低；
*占地面積小，節(jié)約場(chǎng)地建設(shè)費(fèi)用。

☆半導(dǎo)體材料、器件、印刷電·板和集成電·
☆電解電容☆半導(dǎo)體材料、器件、印刷電·板和集成電·
☆電解電容器生產(chǎn)鋁箔及工作件的清洗
☆電子管生產(chǎn)、電子管陰極涂敷碳酸鹽配液
☆顯像管和陰極射線管生產(chǎn)、配料用純水
☆黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)、玻殼清洗、沉淀、濕潤(rùn)、洗膜、管頸清洗用純水
☆液晶顯示器的生產(chǎn)、屏面需用純水清洗和用純水配液
☆晶體管生產(chǎn)中主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制
☆集成電·生產(chǎn)中高純水清洗硅片
☆LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏
☆高品質(zhì)顯像管、螢光粉生產(chǎn)
☆半導(dǎo)體材料、晶元材料生產(chǎn)、加工、清洗
☆超純材料和超純化學(xué)試劑、超純化工材料
☆實(shí)驗(yàn)室和中試車間
☆汽車、家電表面拋光處理
☆光電產(chǎn)品、其他高科技精微產(chǎn)品器生產(chǎn)鋁箔及工作件的清洗
☆電子管生產(chǎn)、電子管陰極涂敷碳酸鹽配液
☆顯像管和陰極射線管生產(chǎn)、配料用純水
☆ 黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)、玻殼清洗、沉淀、濕潤(rùn)、洗膜、管頸清洗用純水
☆液晶顯示器的生產(chǎn)、屏面需用純水清洗和用純水配液
☆晶體管生產(chǎn)中主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制
☆ 集成電·生產(chǎn)中高純水清洗硅片
☆LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏
☆高品質(zhì)顯像管、螢光粉生產(chǎn)
☆半導(dǎo)體材料、晶元材料生產(chǎn)、加工、清洗
☆超純材料和超純化學(xué)試劑、超純化工材料
☆實(shí)驗(yàn)室和中試車間
☆汽車、家電表面拋光處理
☆光電產(chǎn)品、其他高科技精微產(chǎn)品
 

二級(jí)反滲透制備超純水工藝流程
預(yù)處理(砂濾器、碳濾器、軟化器) →一級(jí)反滲透裝置→中間水箱→二級(jí)反滲透裝置 →超純水水箱→純水泵→用水點(diǎn)

一級(jí)反滲透+混床制備超純水工藝流程
預(yù)處理→一級(jí)反滲透裝置→精制混床→精密過(guò)濾器→超純水水箱→純水泵→用水點(diǎn)

二級(jí)反滲透+拋光混床制備超純水工藝流程
預(yù)處理→一級(jí)反滲透裝置→中間水箱→二級(jí)反滲透裝置→拋光混床→精密過(guò)濾器→超純水水箱→純水泵→用水點(diǎn)

二級(jí)反滲透+EDI+拋光混床制備超純水工藝流程     (電阻率18MΩ.cm)
預(yù)處理→一級(jí)反滲透裝置→中間水箱→二級(jí)反滲透裝置→EDI主機(jī)→超純水水箱→純水泵→拋光混床→超純水水箱→純水泵→用水點(diǎn)

操作壓力1.6

出水量0.5-1000

單機(jī)出力0.5-1000

電導(dǎo)率0.01

電壓380

功率根據(jù)處理水量確定

水電阻率10-18.2

脫鹽率99

外形尺寸根據(jù)處理水量確定