HT-FX750防爆激光氧分析儀采用TDLAS（可調(diào)諧半導(dǎo)體激光吸收光譜）技術(shù)，測量不受背景氣體交叉干擾；響應(yīng)速度快，可實(shí)時(shí)反映被測氣體濃度；結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)緊湊，無運(yùn)動(dòng)部件，可靠性和穩(wěn)定性好；智能化程度高，操作、維護(hù)方便；光路實(shí)現(xiàn)非耦合方向調(diào)節(jié)，現(xiàn)場光路調(diào)節(jié)簡單；在高溫、高粉塵、高腐蝕性、高流速等惡劣環(huán)境下具有良好的適應(yīng)性

HT-FX750防爆激光氧分析儀

HT-FX750激光氣體分析儀采用TDLAS（可調(diào)諧半導(dǎo)體激光吸收光譜）技術(shù)，測量不受背景氣體交叉干擾；響應(yīng)速度快，可實(shí)時(shí)反映被測氣體濃度；結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)緊湊，無運(yùn)動(dòng)部件，可靠性和穩(wěn)定性好；智能化程度高，操作、維護(hù)方便；光路實(shí)現(xiàn)非耦合方向調(diào)節(jié)，現(xiàn)場光路調(diào)節(jié)簡單

技術(shù)參數(shù)：

l 測試原理：TDLAS（可調(diào)諧半導(dǎo)體激光吸收光譜）

l 測試組份：O₂

l 測試范圍：O₂：0-

（注：每套分析儀測一種組份氣體濃度，組份、量程可定制）

l 顯示方式：128×64點(diǎn)陣OLED

l 響應(yīng)時(shí)間：T₉₀＜10s

l 線性誤差：≤1%.FS

l 分 辨 率：0.01%

l 重 復(fù) 性：≤1.0%

l 量程漂移：≤1%.FS/半年

l 維護(hù)周期：≤2次/年，清潔光學(xué)窗片

l 標(biāo)定周期：≤2次/年

HT-FX750防爆激光氧分析儀

儀器特點(diǎn)：

a. 采用TDLAS（可調(diào)諧半導(dǎo)體激光吸收光譜）技術(shù)，測量不受背景氣體交叉干擾；

b. 響應(yīng)速度快，可實(shí)時(shí)反映被測氣體濃度；

c. 結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)緊湊，可靠性和穩(wěn)定性好；

d. 智能化程度高，操作、維護(hù)方便；

e. 采用隔爆設(shè)計(jì)，安全系數(shù)高；

f. 在防爆場所，可通過隔離式磁性筆完成菜單的設(shè)置，便于現(xiàn)場操作；

g. 壁掛式安裝，操作維護(hù)方便。

應(yīng)用場合：

應(yīng)用于生物反應(yīng)器、堆肥（處理）、氣體發(fā)生、殘氧測量、自動(dòng)惰封系統(tǒng)、溶劑罐、化學(xué)/制藥反應(yīng)、沼氣/填埋氣體氧監(jiān)、化工，制藥，鋼鐵，環(huán)保，食品等行業(yè)氣體濃度檢測分析。

訂貨須知(用戶訂貨時(shí)請注明）

l 測量范圍

l 背景氣體組份