食品機械設(shè)備網(wǎng)
詳細(xì)介紹
UV解膠機
| 詳細(xì)介紹 | ||||||||||||||||||||||||||||||
基本參數(shù) · 送料形式：抽屜式 · 電源電壓：220V · 別名：UV膜黏性去除機 · 規(guī)格：550*550*260mm · 用途：適用于光學(xué)鏡頭、LED、IC、半導(dǎo)體、集成電路板、移動硬盤等半導(dǎo)體材料UV膜脫膠使用 · 品牌：藍(lán)星宇科技 · 型號：LXY-UV150 · 加工定制 詳細(xì)描述: 特性：粘著劑的硬化處理速度一般要30-40秒，但根據(jù)膠膜的粘著劑特性及適合性和燈管的波長，硬化的處理時間將增長或減少，不過此系統(tǒng)是適用性很高的，例如它可以使用于研發(fā)及大量生產(chǎn)； 用途：適用于光學(xué)鏡頭、LED、IC、半導(dǎo)體、集成電路板、移動硬盤等半導(dǎo)體材料UV膜脫膠使用 種類：化合物半導(dǎo)體 UV解膠機型號參數(shù)：
優(yōu)點： 1.晶圓尺寸：可到6寸、8寸、12寸 2.操作者只要簡單放置/拿開工作物，其它工作都是全自動 3. 外形小巧，桌上型的機型含有進(jìn)口冷光源能均勻產(chǎn)生波長350-400nm的燈光照射，消除膠膜的粘膠 4、具有溫度低、曝光均勻、結(jié)構(gòu)緊湊、能耗小、是半導(dǎo)體行業(yè)的理想機型 | ||||||||||||||||||||||||||||||
UV解機
藍(lán)星宇科技專業(yè)研發(fā)設(shè)計組裝：紫外臭氧清洗機（UV清洗機），準(zhǔn)分子清洗機，等離子清洗機等儀器設(shè)備。引進(jìn)日本，德國，韓國*技術(shù)，設(shè)備已獲得眾多院校，研究所，高科技企業(yè)等客戶*認(rèn)可。
同時我們專注進(jìn)口科學(xué)儀器設(shè)備及材料，主要代理有：德國Nanoscribe 雙光子微納 3D 打印機（雙光子飛秒激光直寫儀），德國 SUSS 蘇斯光刻機，德國 Heidelberg 海德堡光刻機，美國 OAI 光刻機，德國 Raith 電子束光刻機，英國 Durtham 無掩膜光刻機，美國 Trion 刻蝕機.沉積機，德國 Sentech 刻蝕機.沉積機，德國 Optosol 吸收率發(fā)射率檢測儀，日本 SEN UV清洗機.UV清洗燈，美國Jelight UV清洗機，美國 Nano-master 晶圓清洗機，美國 Arradiance 原子層沉積機，德國 WL 微波離子沉積機，德國 Iplas 微波離子沉積機，美國量子科學(xué) Quantum 綜合物性測量系統(tǒng)，德國 Diener 等離子清洗機等*技術(shù)產(chǎn)品；并可依據(jù)客戶需求，研發(fā)定制相關(guān)儀器及材料。我們以具競爭力的價格為客戶提供優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品與服務(wù)，為中國半導(dǎo)體/電子/光電/生物//高科技企業(yè)/高校學(xué)院/研究所/檢測分析等客戶提供設(shè)備儀器及材料。
食品機械設(shè)備網(wǎng)