EN UV清洗燈詳細(xì)介紹

型號(hào)：SUV110GS-36，EUV200GS-31L

適用機(jī)型：SEN UV光表面處理試驗(yàn)機(jī)PL16-110,P

藍(lán)星宇科技專(zhuān)業(yè)研發(fā)設(shè)計(jì)組裝：紫外臭氧清洗機(jī)（UV清洗機(jī)），準(zhǔn)分子清洗機(jī)，等離子清洗機(jī)等儀器設(shè)備。引進(jìn)日本，德國(guó)，韓國(guó)*技術(shù)，設(shè)備已獲得眾多院校，研究所，高科技企業(yè)等客戶(hù)*認(rèn)可。 

  同時(shí)我們專(zhuān)注進(jìn)口科學(xué)儀器設(shè)備及材料，主要代理有：德國(guó)Nanoscribe 雙光子微納 3D 打印機(jī)（雙光子飛秒激光直寫(xiě)儀），德國(guó) SUSS 蘇斯光刻機(jī)，德國(guó) Heidelberg 海德堡光刻機(jī)，美國(guó) OAI 光刻機(jī)，德國(guó) Raith 電子束光刻機(jī)，英國(guó) Durtham 無(wú)掩膜光刻機(jī)，美國(guó) Trion 刻蝕機(jī).沉積機(jī)，德國(guó) Sentech 刻蝕機(jī).沉積機(jī)，德國(guó) Optosol 吸收率發(fā)射率檢測(cè)儀，日本 SEN  UV清洗機(jī).UV清洗燈，美國(guó)Jelight UV清洗機(jī)，美國(guó) Nano-master 晶圓清洗機(jī)，美國(guó) Arradiance 原子層沉積機(jī)，德國(guó) WL 微波離子沉積機(jī)，德國(guó) Iplas 微波離子沉積機(jī)，美國(guó)量子科學(xué) Quantum 綜合物性測(cè)量系統(tǒng)，德國(guó) Diener 等離子清洗機(jī)等*技術(shù)產(chǎn)品；并可依據(jù)客戶(hù)需求，研發(fā)定制相關(guān)儀器及材料。我們以具競(jìng)爭(zhēng)力的價(jià)格為客戶(hù)提供優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品與服務(wù)，為中國(guó)半導(dǎo)體/電子/光電/生物//高科技企業(yè)/高校學(xué)院/研究所/檢測(cè)分析等客戶(hù)提供設(shè)備儀器及材料。

L17-110，PL28-200

我司專(zhuān)業(yè)代理日本SEN生產(chǎn)的低壓汞燈，高壓汞燈，UV清洗燈，UV固化燈，各種大型光清洗機(jī)，桌上型清洗機(jī)，大型光固化機(jī)，桌上型固化機(jī)，手提式固化機(jī)，UV紫外線臭氧殺菌機(jī)等各種紫外線臭氧產(chǎn)品。

所有產(chǎn)品全部日本制造，日本發(fā)送。

40多年的專(zhuān)業(yè)生產(chǎn)使我們的UV燈具有照度高，照度均勻，使用壽命長(zhǎng)等特點(diǎn)。

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