詳細(xì)介紹
Jelight 576 UV臭氧清洗機(jī)
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臭氧清機(jī)UVO 576大容量托盤(pán),測(cè)量24×24”英寸。單位有兩個(gè)副媒體入口,配備閥門(mén),直接由PLC控制。這允許更快的臭氧生成和明顯增大的臭氧被送到清洗表面。清潔后氮?dú)獬錆M(mǎn)了抽屜。清洗時(shí)間(紫外汞網(wǎng)格燈操作時(shí)間)和清洗時(shí)間可以獨(dú)立設(shè)置。 |
Jelight 576 UV臭氧清洗機(jī)
藍(lán)星宇科技專(zhuān)業(yè)研發(fā)設(shè)計(jì)組裝:紫外臭氧清洗機(jī)(UV清洗機(jī)),準(zhǔn)分子清洗機(jī),等離子清洗機(jī)等儀器設(shè)備。引進(jìn)日本,德國(guó),韓國(guó)*技術(shù),設(shè)備已獲得眾多院校,研究所,高科技企業(yè)等客戶(hù)*認(rèn)可。
同時(shí)我們專(zhuān)注進(jìn)口科學(xué)儀器設(shè)備及材料,主要代理有:德國(guó)Nanoscribe 雙光子微納 3D 打印機(jī)(雙光子飛秒激光直寫(xiě)儀),德國(guó) SUSS 蘇斯光刻機(jī),德國(guó) Heidelberg 海德堡光刻機(jī),美國(guó) OAI 光刻機(jī),德國(guó) Raith 電子束光刻機(jī),英國(guó) Durtham 無(wú)掩膜光刻機(jī),美國(guó) Trion 刻蝕機(jī).沉積機(jī),德國(guó) Sentech 刻蝕機(jī).沉積機(jī),德國(guó) Optosol 吸收率發(fā)射率檢測(cè)儀,日本 SEN UV清洗機(jī).UV清洗燈,美國(guó)Jelight UV清洗機(jī),美國(guó) Nano-master 晶圓清洗機(jī),美國(guó) Arradiance 原子層沉積機(jī),德國(guó) WL 微波離子沉積機(jī),德國(guó) Iplas 微波離子沉積機(jī),美國(guó)量子科學(xué) Quantum 綜合物性測(cè)量系統(tǒng),德國(guó) Diener 等離子清洗機(jī)等*技術(shù)產(chǎn)品;并可依據(jù)客戶(hù)需求,研發(fā)定制相關(guān)儀器及材料。我們以具競(jìng)爭(zhēng)力的價(jià)格為客戶(hù)提供優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品與服務(wù),為中國(guó)半導(dǎo)體/電子/光電/生物//高科技企業(yè)/高校學(xué)院/研究所/檢測(cè)分析等客戶(hù)提供設(shè)備儀器及材料。