Jelight 18/ 24/30 UVO3清洗機紫外線臭氧清洗方法,是使用短波的紫外線照射, 使其光敏氧化的過程. 通過將樣品正確放置在距離臭氧紫外線光源5MM, 在不到1分鐘內(nèi)可以實現(xiàn)自動清洗表面.

藍星宇科技專業(yè)研發(fā)設(shè)計組裝：紫外臭氧清洗機（UV清洗機），準分子清洗機，等離子清洗機等儀器設(shè)備。引進日本，德國，韓國*技術(shù)，設(shè)備已獲得眾多院校，研究所，高科技企業(yè)等客戶*認可。 

  同時我們專注進口科學(xué)儀器設(shè)備及材料，主要代理有：德國Nanoscribe 雙光子微納 3D 打印機（雙光子飛秒激光直寫儀），德國 SUSS 蘇斯光刻機，德國 Heidelberg 海德堡光刻機，美國 OAI 光刻機，德國 Raith 電子束光刻機，英國 Durtham 無掩膜光刻機，美國 Trion 刻蝕機.沉積機，德國 Sentech 刻蝕機.沉積機，德國 Optosol 吸收率發(fā)射率檢測儀，日本 SEN  UV清洗機.UV清洗燈，美國Jelight UV清洗機，美國 Nano-master 晶圓清洗機，美國 Arradiance 原子層沉積機，德國 WL 微波離子沉積機，德國 Iplas 微波離子沉積機，美國量子科學(xué) Quantum 綜合物性測量系統(tǒng)，德國 Diener 等離子清洗機等*技術(shù)產(chǎn)品；并可依據(jù)客戶需求，研發(fā)定制相關(guān)儀器及材料。我們以具競爭力的價格為客戶提供優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品與服務(wù)，為中國半導(dǎo)體/電子/光電/生物//高科技企業(yè)/高校學(xué)院/研究所/檢測分析等客戶提供設(shè)備儀器及材料。

三種型號:

Jelight 18:
 
           托盤尺寸: 3.50 x 7.00 inches
                           88 x 177mm


Jelight 24:

           托盤尺寸: 4.25 x 7.00 inches
                          107 x 177mm

Jelight 30:

           托盤尺寸: 5.0 x 7.0 inches
                          127 x 177mm

應(yīng)用程序:
•UV固化•表面模式
•臭氧腐蝕•顯微鏡幻燈片
•清潔鏡片和光學(xué)
•為薄膜沉積準備
•AFM探針清潔/使*削尖
•改善表面潤濕性能
 

Jelight 18/ 24/30 UVO3清洗機