美Jelight紫外臭氧清洗機(jī)&臭氧發(fā)生器美國(guó)JELIGHT公司成立于一九七八年，一直致力于為科研，工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域設(shè)計(jì)和制造紫外相關(guān)產(chǎn)品。主要產(chǎn)品包括：Double Bore Lamps雙筒燈 (低壓汞蒸氣)，Capillary Lamps毛細(xì)管水銀燈(低壓汞蒸氣)，Grid Lamps隔柵燈(低壓汞蒸氣)，Aperture Phosphor Coated Lamps(低壓汞蒸氣)，中壓燈Medium Pressure Lamps (UV Curing and Additive Lamps)，紫外臭氧清洗機(jī)UVO Cleaner，晶圓記憶消除器Wafer and EPROM Erasers (CHIPnERASER)，臭氧發(fā)生器Ozone Generator。

　
美國(guó)JELIGHT紫外臭氧清洗機(jī)
JELIGHT 紫外清洗機(jī)是一種快速干法表面清洗工具。其原理是利用紫外光子對(duì)有機(jī)物質(zhì)所起的光敏氧化作用以達(dá)到清洗粘附在物體表面上的有機(jī)化合物（碳?xì)浠衔铮┑哪康?。是清除硅、砷化鎵、石英、藍(lán)寶石、玻璃、云母、陶瓷、金屬等表面有機(jī)污染物的安全、有效的方法。 除清洗外，JELIGHT紫外清洗機(jī)還可用于表面改質(zhì)，如通過(guò)紫外處理后，涂層與表面的粘附力可大大增加，并可用于生物芯片制作過(guò)程中PDMS鍵合等。  


　
產(chǎn)品型號(hào)目錄:



　
紫外清洗優(yōu)點(diǎn)
• 被清洗的表面除了光子，不與任何物體發(fā)生接觸，有機(jī)物經(jīng)過(guò)紫外光照射發(fā)生光敏氧化反應(yīng)后，生成可揮發(fā)性氣體（CO2、CO、H2O等）從表面消散，隨著排風(fēng)系統(tǒng)抽走。
• 表面潔凈度高，且不會(huì)像溶液清洗時(shí)發(fā)生二次污染。
• 光清洗的表面不會(huì)受到損傷，由于光子的能量相對(duì)比氬等離子體濺射或惰性氣體離子轟擊的能量小，光清洗后的表面不會(huì)受到損傷或發(fā)生晶體缺陷的現(xiàn)象。
• 光清洗對(duì)物體表面微細(xì)部位（如孔穴、微細(xì)溝槽等）具有有效而*的清洗效果。由于紫外光是納米短波紫外線，能夠射入材料表面的極為 細(xì)微的部位，發(fā)生光敏氧化反應(yīng)，充分表現(xiàn)出光清洗的*性。


相關(guān)應(yīng)用
• 在進(jìn)行薄膜沉積之前*行基片清洗。清除浮渣和穩(wěn)定化處理光刻膠。超高真空度密封。
• 清洗硅芯片，透鏡，反光鏡，太陽(yáng)能面板，冷軋鋼，慣性引導(dǎo)零件和 GaAs芯片
• 清潔焊劑，混合電路以及平板LCD顯示器
• 蝕刻特氟隆，氟橡膠以及其它有機(jī)材料
• 增強(qiáng)GaAs 和Si氧化物鈍化表面
• 增強(qiáng)玻璃的除氣作用
• 基片藍(lán)膜去除
• 增強(qiáng)塑料表面的鍍膜的粘附性
• 基片終測(cè)后墨跡清楚
• 去除光刻膠
• 平板顯示器/液晶顯示器
• 去除光刻機(jī)臺(tái)上的光刻膠殘留物
• 在電路板封裝和打片之前清洗
• 光纖
• 增強(qiáng)表面親水特性
• 為生物科學(xué)應(yīng)用做清洗和消毒
• 光學(xué)透鏡
• 其它應(yīng)用

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