Dateblat LabSpin 旋轉(zhuǎn)勻膠機

實驗室涂膠顯影方案，大尺寸6”到8”

該系統(tǒng)根據(jù)實驗室和研發(fā)用途定制開發(fā)，針對不同類型的光刻化學(xué)試劑設(shè)計，通過*的腔體設(shè)計，提供均勻、精確和重復(fù)性高的涂膠結(jié)果.

 

LabSpin系統(tǒng)提供兩種型號的設(shè)備，分別是桌上型（table-top，TT）和集成型（集成在濕化學(xué)槽中，Bench Module，BM），都可以完成大尺寸為150mm或200mm的襯底涂覆功能。LabSpin涂膠機可以應(yīng)用于非常廣泛的襯底材料，從碎片到150/200mm圓片或100x100mm/150x150mm方片。非常小的設(shè)備尺寸只需要很小的占地空間。

LabSpin設(shè)計了大量的選配件，適用于不同應(yīng)用的需求。該涂膠系統(tǒng)可以裝配針筒或自動滴膠臂、邊緣涂覆、去厚膠邊、積水式顯影等等多種配置。
 

藍(lán)星宇科技專業(yè)研發(fā)設(shè)計組裝：紫外臭氧清洗機（UV清洗機），準(zhǔn)分子清洗機，等離子清洗機等儀器設(shè)備。引進日本，德國，韓國*技術(shù)，設(shè)備已獲得眾多院校，研究所，高科技企業(yè)等客戶*認(rèn)可。 

  同時我們專注進口科學(xué)儀器設(shè)備及材料，主要代理有：德國Nanoscribe 雙光子微納 3D 打印機（雙光子飛秒激光直寫儀），德國 SUSS 蘇斯光刻機，德國 Heidelberg 海德堡光刻機，美國 OAI 光刻機，德國 Raith 電子束光刻機，英國 Durtham 無掩膜光刻機，美國 Trion 刻蝕機.沉積機，德國 Sentech 刻蝕機.沉積機，德國 Optosol 吸收率發(fā)射率檢測儀，日本 SEN  UV清洗機.UV清洗燈，美國Jelight UV清洗機，美國 Nano-master 晶圓清洗機，美國 Arradiance 原子層沉積機，德國 WL 微波離子沉積機，德國 Iplas 微波離子沉積機，美國量子科學(xué) Quantum 綜合物性測量系統(tǒng)，德國 Diener 等離子清洗機等*技術(shù)產(chǎn)品；并可依據(jù)客戶需求，研發(fā)定制相關(guān)儀器及材料。我們以具競爭力的價格為客戶提供優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品與服務(wù)，為中國半導(dǎo)體/電子/光電/生物//高科技企業(yè)/高校學(xué)院/研究所/檢測分析等客戶提供設(shè)備儀器及材料。

選項:

全自動

• ACS300 Gen3
• ACS300 Gen2
• ACS200 Gen3

半自動及手動

• LabSpin6 / LabSpin8
• RCD8
  
  亮點：
  。工藝多樣化，包括涂膠和積水或顯影，
  ?？蛇M行去除厚膠邊，
  。滴膠位置可調(diào)節(jié)，允許中心滴膠和邊緣涂膠。
  
  

Dateblat LabSpin 旋轉(zhuǎn)勻膠機