SB-402曝光機(jī)（雙面光刻機(jī)）

藍(lán)星宇科技專業(yè)研發(fā)設(shè)計(jì)組裝：紫外臭氧清洗機(jī)（UV清洗機(jī)），準(zhǔn)分子清洗機(jī)，等離子清洗機(jī)等儀器設(shè)備。引進(jìn)日本，德國(guó)，韓國(guó)*技術(shù)，設(shè)備已獲得眾多院校，研究所，高科技企業(yè)等客戶*認(rèn)可。 

  同時(shí)我們專注進(jìn)口科學(xué)儀器設(shè)備及材料，主要代理有：德國(guó)Nanoscribe 雙光子微納 3D 打印機(jī)（雙光子飛秒激光直寫儀），德國(guó) SUSS 蘇斯光刻機(jī)，德國(guó) Heidelberg 海德堡光刻機(jī)，美國(guó) OAI 光刻機(jī)，德國(guó) Raith 電子束光刻機(jī)，英國(guó) Durtham 無(wú)掩膜光刻機(jī)，美國(guó) Trion 刻蝕機(jī).沉積機(jī)，德國(guó) Sentech 刻蝕機(jī).沉積機(jī)，德國(guó) Optosol 吸收率發(fā)射率檢測(cè)儀，日本 SEN  UV清洗機(jī).UV清洗燈，美國(guó)Jelight UV清洗機(jī)，美國(guó) Nano-master 晶圓清洗機(jī)，美國(guó) Arradiance 原子層沉積機(jī)，德國(guó) WL 微波離子沉積機(jī)，德國(guó) Iplas 微波離子沉積機(jī)，美國(guó)量子科學(xué) Quantum 綜合物性測(cè)量系統(tǒng)，德國(guó) Diener 等離子清洗機(jī)等*技術(shù)產(chǎn)品；并可依據(jù)客戶需求，研發(fā)定制相關(guān)儀器及材料。我們以具競(jìng)爭(zhēng)力的價(jià)格為客戶提供優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品與服務(wù)，為中國(guó)半導(dǎo)體/電子/光電/生物//高科技企業(yè)/高校學(xué)院/研究所/檢測(cè)分析等客戶提供設(shè)備儀器及材料。

產(chǎn)品參數(shù)

對(duì)準(zhǔn)工作臺(tái)指標(biāo):

 X向行程：±4mm

 Y向行程：±4mm

 旋轉(zhuǎn)角θ向：±5°

 基片尺寸：Maxφ4″

 掩模尺寸：Max5″×5″

 雙面對(duì)準(zhǔn)精度：±0.003mm

□機(jī)械手構(gòu)指標(biāo)；

 機(jī)械手對(duì)下掩模分離間隙：0～100μm（當(dāng)量1μm）

□曝光系統(tǒng)指標(biāo)；

 光源：250W超高壓汞燈

 波長(zhǎng)：UV365

 大曝光面積；φ110mm

 曝光不均勻性：±3%

 曝光分辨率：3μm（正膠）

 汞燈冷卻： 風(fēng)冷

 曝光時(shí)間：0～999s 檔量1s

□分離視場(chǎng)顯微鏡指標(biāo)：

 總倍率： 65X

 視場(chǎng)：φ3.3mm

 物鏡分離距離：26～70mm

□所需設(shè)施：

 輸入電壓：～220V±22V（50HZ）

 整機(jī)功率：1.5KW

 室內(nèi)光線: 紅色、黃色

 氮?dú)猓∟2）:0.2～0.4MPa

 壓縮空氣:0.5～0.7MPa

 真 空 :－0.08～－0.1mPa

□體積及重量：

 重量： 480㎏

 外形尺寸:950㎜×850㎜×1500㎜

SB-402曝光機(jī)（雙面光刻機(jī)）