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產品介紹：
該設備是一款帶有預熱系統(tǒng)的滑動PECVD系統(tǒng)。該系統(tǒng)包含等離子射頻電源，預熱爐，滑動式管式爐，4通道質量流量供氣系統(tǒng)和旋片泵組成?？捎糜谏L納米或CVD方法來制作各種薄膜。

產品用途：
PECVD系統(tǒng)是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學活性很強，很容易發(fā)生反應，在基片上沉積出所期望的薄膜。該系統(tǒng)廣泛應用于沉積高質量、SiO2薄膜、Si3N4薄膜、SiC薄膜、硬質薄膜、光學薄膜和炭納米管（CNT）、石墨烯材料等。是應用于生長納米線或用CVD方法來制作各種薄膜的一款新的探索工具。

技術參數：

產品名稱	帶預熱系統(tǒng)滑動式PECVD設備
滑軌管式爐部分
產品型號	KJ-T1200-S06LC-YR
爐管尺寸	60*長度1600mm 可選其他直徑Φ50，80，100，120，150mm
爐管材質	石英管
加熱區(qū)	雙溫區(qū)，每個溫區(qū)長度200mm
工作溫度	1100℃
溫度	1200℃
溫控方式	K型熱電偶
控制方式	觸屏控制
控溫精度	±1℃
溫控保護	具有超溫和斷偶保護功能
升溫速率	0-20ºC/min可調，建議10ºC/min
加熱元件	含鉬電阻絲
工作電壓	AC 220V 單相 50HZ （電路電壓用戶可選擇定制）
加熱功率	3KW
爐膛材料	氧化鋁多晶纖維
爐體結構	爐體帶滑軌，可實現(xiàn)快速升溫和降溫
法蘭接頭	標配配有兩個不銹鋼真空法蘭，已安裝機械壓力表和不銹鋼截止閥
密封系統(tǒng)	該爐爐管與法蘭之間采用硅膠O型圈擠壓密封、撤卸方便、可重復撤卸，氣密性好。
預熱爐
主要參數	溫度1100度，多段程序控溫，可將固體和液體原料放在預熱爐中，氣化后與氣體原料相混合
真空系統(tǒng)部分
主要參數	采用機械，可實現(xiàn)爐管內的真空
氣路系統(tǒng)部分
名稱	四路質量流量計（量程可選）
等離子電源部分
功率范圍	0-500W（連續(xù)可調）
售后服務	質保一年，終身保修（耗材類：高溫密封圈、爐管、加熱元件等及人為損壞不屬于質保范圍）
更多規(guī)格可根據客戶需求定制

1、我公司對所供設備提供質保一年保修服務（易損件除外），在保修期內因設備質量原因造成的設備損壞或故障，均予以免費維修。保修期滿后，仍提供終身的、優(yōu)質的維修服務。
2、在設備使用過程中如遇故障的，我公司將盡快做出處理方案，確保設備正常運行。
3、我公司設提供免費的設備操作培訓和簡單故障排除維修培訓。
4、我公司技術人員可提供(產品安裝調試、整機維護、技術講解及操作指導等)。
5、本公司可提供運輸服務，包裝方式均按照標準安全包裝進行。隨機技術資料齊全（用戶手冊、保修手冊、有關資料及配件、隨機工具等）。
6、本公司所有產品均有歐盟CE質量認證。

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