混床拋光樹(shù)脂設(shè)備電阻率10-15兆歐凈康樂(lè)公司的制藥超純水設(shè)備系統(tǒng)遵循模塊化設(shè)計(jì)理念，以預(yù)處理、氧化消毒、多介質(zhì)過(guò)濾、RO反滲透、UV消毒、EDI連續(xù)去離子和儲(chǔ)存外輸?shù)裙δ軉卧獮榛A(chǔ)，在設(shè)計(jì)、制造、調(diào)試過(guò)程中將萊特萊德水處理*的技術(shù)、*的工藝和嚴(yán)格的質(zhì)量控制貫徹到每個(gè)功能單元；zui終產(chǎn)水裝置根據(jù)其用水標(biāo)準(zhǔn)的不同，經(jīng)由各功能模塊優(yōu)化組合而成，從而保證了整個(gè)系統(tǒng)的高性能與高質(zhì)量，使產(chǎn)成水*達(dá)到或超過(guò)純化水和注射用水的水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)。
制藥行業(yè)制備超水的工藝大致分成以下幾種：
1、采用離子交換方式，其流程如下：
原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過(guò)濾器→活性炭過(guò)濾器→軟水器→精密過(guò)濾器→陽(yáng)樹(shù)脂過(guò)濾→陰樹(shù)脂過(guò)濾→陰陽(yáng)樹(shù)脂混床→微孔過(guò)濾器→用水點(diǎn)
2、采用兩級(jí)反滲透方式，其流程如下：
原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過(guò)濾器→活性炭過(guò)濾器→軟水器→精密過(guò)濾器→一級(jí)反滲透 →PH調(diào)節(jié)→中間水箱→二級(jí)反滲透→純化水箱→純水泵→微孔過(guò)濾器→用水點(diǎn)
3、采用EDI方式，其流程如下：
原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過(guò)濾器→活性炭過(guò)濾器→軟水器→精密過(guò)濾器→一級(jí)反滲透機(jī)→中間水箱→中間水泵→EDI系統(tǒng)→微孔過(guò)濾器→用水點(diǎn)
4、原水→多介質(zhì)過(guò)濾器→活性炭過(guò)濾器→軟化水器→中間水箱→低壓泵→PH值調(diào)節(jié)→高效混合器→精密過(guò)濾器→高效反滲透→中間水箱→EDI水泵→EDI系統(tǒng)→微孔過(guò)濾器→用水點(diǎn)
用途:醫(yī)藥行業(yè)、電子工業(yè)，半導(dǎo)體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的純水、高純水、超純水清洗半成品、成品。
制藥超純水設(shè)備的工藝特點(diǎn)：注射用超純水設(shè)備,制藥超純水設(shè)備,醫(yī)藥純水設(shè)備
在設(shè)備設(shè)計(jì)上，采用成熟、可靠、*、自動(dòng)化程度高的兩級(jí)反滲透＋EDI水處理工藝，確保處理后的超純水水質(zhì)符合要求，水利用率高，運(yùn)行可靠，經(jīng)濟(jì)合理。關(guān)鍵設(shè)備及材料均采用主流*可靠產(chǎn)品，采用PLC＋觸摸屏控制，全套系統(tǒng)自動(dòng)化程度高，系統(tǒng)穩(wěn)定性高。大大節(jié)省人力成本和維護(hù)成本。使設(shè)備與其它同類產(chǎn)品相比較，具有更高的性價(jià)比和設(shè)備可靠性。
超純水設(shè)備應(yīng)用領(lǐng)域：
電解電容器生產(chǎn)鋁箔及工作件的清洗；
電子管生產(chǎn)、顯像管和陰極射線管生產(chǎn)配料用純水；
黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)、玻殼清洗、沉淀、濕潤(rùn)、洗膜、管頸清洗用純水；
生產(chǎn)液晶顯示器的屏面需用純水清洗和用純水配液；
晶體管生產(chǎn)中純水主要用于清洗硅片；
集成電路生產(chǎn)中高純水清洗硅片；
半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路用純水；
半導(dǎo)體材料、晶元材料生產(chǎn)、加工、清洗；
高品質(zhì)顯像管、螢光粉生產(chǎn)； 注射用超純水設(shè)備,制藥超純水設(shè)備,醫(yī)藥純水設(shè)備
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